冷轧钢板表面电解涂覆薄层二氧化硅过程的研究——Ⅱ．机理研究.pdfVIP

维普资讯 2005年5月 电镀 与 精 饰 第27卷第3期(总162期) 文章编号：1001—3849(2005)03—0005—03 冷轧钢板表面电解涂覆薄层二氧化硅过程的研究 Ⅱ．机理研究 耿秋菊 ● 周荣明 ， 印仁和 ， 郁祖湛 (1．上海大学 理学院化学系，上海 200436；2．复旦大学 化学系，上海 200433) 摘要：在已有各种X-艺因素对电解涂硅量影响研究的基础上，对在高电流密度(1()(]～200A／dm) 及短时间(0．1S)电解条件下电解涂覆薄层(纳米量级)SiO 机理进行了初步研究，实验模拟了实际 生产中采用的中间导体法，并运用多种测试方法对电解涂硅的机理进行 了分析探讨，揭示了高电流 密度下电解脱脂涂硅的吸附本质及SiO 在钢板表面的空间分布，并就钢板阴阳极两面涂硅量的不 同原因进行 了解释 。 关 键 词：中间导体法；电解涂覆二氧化硅；纳米 中图分类号：TG174．4 文献标识码：A Studyon theProcessofElectrOdep0sitj0nofThin Silica Film ontheSurfaceofCold．．rolledSteelPlate Ⅱ．M echanism Discussion GENGQiu—ju，ZHOU Rong～ming，YIN Ren—he，YU Zu—zhan。 (1．DepartmentofChemistry，CollegeofSciences，ShanghaiUniv．，Shanghai 200436，China； 2．DepartmentofChemistry，FudanUniv．，Shanghai 200433，China) Abstract：Basedonthestudyofthevariousprocessingfactorsthatinfluencetheamountsofsili— cononthesteelsurface，themechanism oftheelectrodepositjonofnanoscalesilicathinfilm at theconditionofhighcurrentdensity(100～200A／dni )andshorttime(0．1S)wasinvestigated． Thebipolarelectrolyticmethodusedinpracticeproductionwassimulatedandsomesurfacetest methodswasusedtostudytheprocessofelectrodepostionofsilicaonthestee1．Theadsorption qualitiesoftheelectrodepositionofsilicaandthespacedistributionofsilicaonthesteelplateat theconditionofhighcurrentdensitywererevealed．Inaddition，thepossiblereasonofthediffer— entamountsofsilicaonthetwooppositeelectrodesurfacesofthesteelwasdiscussed． Keywords：bipolarelectrolyticmethod；electrodepositionofsilica；nanometer 我们也进行了相关的测定，已在文献[23中介绍。对 引 于采用低电流密度，以偏硅酸钠作为电解脱脂基 采用中间导体法对钢板表面进行电解脱脂涂硅 础液的电解脱脂涂硅过程的机理在 1946年曾有人 过程的研究虽有报道，但仅限