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低偏压下化学气相沉积金刚石薄膜的生长形貌研究.pdf
第 卷 第 期 材 料 保 护 36 5 VoI . 36 No .5 年 月 2003 5 MATERIALS PROTECTION May 2003 !!!!!!! ! 试验研究 ! ! !!!!!! 低偏压下化学气相沉积金刚石薄膜的生长形貌研究 ， ， ， l 2 2 2 l 2 l 2 l 2 王传新 ，汪建华 ，马志斌 ，满卫东 ，王升高 ，康志成 ，吴素娟 （ 中国科学院等离子体物理研究所，安徽 合肥 ； l. 23003l 2 . 武汉化工学院湖北省微波等离子体化学与新材料重点实验室，湖北 武汉430073） ［摘 要］ 在微波等离子体化学气相沉积装置中，研究了偏压电压、甲烷浓度及沉积气压对金刚石晶形显露的影响。 实验结果表明，生长时施加低的衬底偏压对金刚石的晶形显露有较大的影响，正的偏压有利于（ ）面显露，负偏压有利于 lll （ ）面显露。在低偏压条件下生长时，低的沉积气压和甲烷浓度有利于（ ）面显露；而高的气压和甲烷浓度有利于（ ） l00 lll l00 面显露。过高的甲烷浓度将恶化金刚石质量，出现菜花状组织，无明显的晶面显露。 ［关键词］ 化学气相沉积；低偏压生长；金刚石薄膜；图像 ［中图分类号］ ［文献标识码］ ［文章编号］ （ ） TGl74 .4 A l00l - l560 2003 05 - 000l - 04 Growth Morphology of CVD Diamond Film under Low Bias Voltage ， l 2 2 2 ， ， ， WANG Chuan-xin WANG Jian-hua MA Zhi-bin ， ， l 2 l 2 l 2 ， ， ， MAN Wei-dong WANG Sheng-gao
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