bm细线化（tg-d567）测试报告 1st test.docxVIP

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2021-08-09 发布于四川
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BQE BQE BM CD细线化 TG-D567PR材料测试报告 CF技术部 ?测试目的 BM细线化材料开发，TG-D567 PR评价 ?测试结果 Lot/Slot Glass Back UV Filter Mask CD (um) HP TEM(°C)/ Time(s) DV Time (S) EXP (Mj/um) AOI AOI PIC BM CD (um ) Macro BM Thick (um ) FC-0181L NO No 6 um (4.82Z3 ) 90/120 50 30 /100 OK 黑点/胶残留 FC-0181J 110/120 70 40 /100 OK 黑点/胶残留 FC-0200F use 100/120 80 40/100 OK 显影不良 .结论 TG-D567 PR BM ,使用Asahi 0.5T Glass所得BM CD最小为6.1um, 与目前量产PR NSCC-782X （最小5.5 um）比拟，没有太大差异. 条件 Lot/Slot Glass Back UV Filter Mask CD (um) HP TEM./ Time (°C/s) DV Time (s) EXP (mj/um) AOI AOI PIC BM CD (um) Macro BM Thick FC-0181B 100/120 80 掉胶暨厂商推荐1 FC-0181D 100/120 60 掉胶竖线厂商推荐2 FC-0181F 90/120 50 过烘 FC-0181K 90/120 50 40 /100 OK 横线斜线带点竖线 FC-0181L 90/120 50 30 /100 OK 黑点竖线 FC-0181N NO 90/120 60 30 /100 Peeling 严重 11 26 横线显影不良斜线厂商推荐3 FC-0181G 6 110/120 70 60 /100 OK 1 1 9 横线竖线曲 FC-0181H No (4.82Z3 ) 110/120 70 50 /100 OK 1 横线过烘斜线 FC-018U 110/120 70 40 /100 （黑点，9*10 Pin mura ）显影不良过烘横线 FC-0181M 110/120 70 30/100 横线显影不良斜线 FC-0200E 100/120 80 30/100 1 掉胶竖线白点 FC-0200F Asahi 0.5 T 100/120 80 40/100 1 显影不良白点掉胶 FC-0200G use 100/120 80 37/100 膜损伤 1 胶残留掉胶 FC-0200H 100/120 80 35/100 膜损伤 1 竖线胶残留＞结果:使用All 0.4T Glass最小CD能够做到7.5um,使用Asahi 0.5T Glass最小CD能够做到 NSCC 8 um BM 形貌 Glass : All Developer Time : 50s HP : 90°C EXP:30 Mj/lOOum Cut Filter : NO Use Back UV : No Use a PointTop1 : X=73909um1 : 1 : 1 : Profile iotaSUC015 v 8ilO Ck SU.IA：：褊 Point Top 1 : X=73909um 1 : 1 : 1 : Profile iota SUC015 v 8ilO Ck SU.IA：：褊 Glass: All Developer Time : 70s HP: 110°C EXP : 40mj/100um Cut Filter : NO Use Back UV : No Use Glass: Asahi Developer Time : 80s HP: 100°C EXP : 40mj/100um NSCC 5.5 um BM 形貌Cut Filter : NO Use Back UV : Use NSCC 5.5 um BM 形貌 Point 1 2 3 4 5 Top 1 : 1 : 1 : 1 : 1 : Profile122 3 Profile 1 2 2 3