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零 黧 genus si of翻lica glass 湖南 … 摘 要：本文通过大量实验研究了影响研磨效率物理机械作用和化学侵蚀的关键因素。对磨盘转速、磨料粒径、浓度等 物理因素和有机碱、表面活性剂等化学因素影响研磨效率的规律进行研究。在改善表面质量的前提下，结合Ⅲ类石英 玻璃表面质量分析，探索了有机碱、表面活性剂最大程度提高磨损速率的最佳掺入量 、文章最后还分析了室温对加工 效率提高的影响程度 吣 关键字：石英玻璃；研磨；表面质量；有机碱；表面活性剂 Abstract：In this research，we CODducted a lot of experimelits to investigate the i1：lfluence of the material relnova1 rate by physical factors and chemical factors．We have study the significant factors such as physical factors included pad rotate speed， particle size and slurry COImentration and chemical factors included organic weak lye and noll—ionic SHrface active agm~t． Considered the precondition of advancing the quality of grinded surface，and combined with the analyses of Stll~ace quality 0f I11 gelms silica glass we have explored the optimal concelKration of organic weak lye and non—ionic Stlrface active agent tO improve abrasion rate to the utnlost extent．At the end of paper，room temperature factor has been a13alyzed． Keyword：silica glass； nding；surface quality；organic lye；surface active agent 中图分类号：TQ171．73+1文献标识码：B 文章编号：1003—8965(2008)O1—0026—06 研究目的 Ⅲ类石英玻璃以其高纯度、耐高温、高稳定性、 传统加工方法对技术工人的依赖性强，加工耗 耐辐照等优良特性广泛用于航天、核技术、电子信 时费力，需要非常熟练的工人进行大量地连续稳步 息等新技术领域 。为确保工程配套需求，开发高性 的工作 1；目前新工艺和技术更新缓慢，并且这一状 能石英玻璃光学元件对于促进我国新材料领域的 况一直没有得到根本的改善；质量保证和工序控制 技术进步，确保国家安全，具有重要的意义。 都是离线控制，依靠手工加工的某些精密光学零件
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