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当外加电场较弱时.迁移率μ和电导率σ与?无关,υd,j与?存在线性关系;当电场强度接近或超过105V/m时,μ、σ不能视为与电场强度无关的常数,υd,j表现出与?的非线性关系,μ随?的增加而降低。这时,载流子处于非平衡状态,单位时间从电场中获得的能量超过受晶格散射时给予晶格的能量,使其平均能量和平均速度比热平衡时的大。在平均自由程不变的情况下,平均自由时间减小,即更加频繁地与晶格碰撞,因而迁移率降低。当?不是很强时,载流子主要吸收和发射声学声子,μ有所降低;当?进一步增强时,载流子从电场中获得很高的能量,散射时能够发射光学声子,于是能量大部分又损失,因而υd可以达到饱和第90页,共140页,星期日,2025年,2月5日综上所述,一般半导体的-关系可用图2-52的曲线表示。当电场再增加时,就会发生击穿现象,参见“齐纳效应”和“隧道效应”。砷化镓等半导体在ξ较大时,令人惊奇地表现出“增大,减小”的现象,关系曲线如图2-53所示(为便于比较,图中还画出硅的-曲线),这可从砷化镓的特殊导带结构得到解释。图2-52图2-53第91页,共140页,星期日,2025年,2月5日砷化镓导带有两个能量极小位置,称作双能谷结构,如图2-54。注意横坐标是波矢(也就是在动量空间画的能带图),而不是本章其他各节常用的空间位置坐标。由图可见,在k=0和[100]方向各有一个能谷,分别为能谷1和能谷2,前者曲率比后者大。根据电子有效质量定义知能谷2电子有效质量比能谷1大,即,实验测得,(mo为电子静止质量)。m*大,就表示电子“惯性”大,不易被电场加速,迁移率也就小,所以μ1μ2图2-54第92页,共140页,星期日,2025年,2月5日在无外场时,电子几乎全部处于能量较低的能谷1中。当外电压使砷化镓内部电场超过3×105V/m时,能谷1中的电子可以从电场中获得超过0.38eV的能量。当它们与晶格原子或杂质离子碰撞时,动量大小和方向发生改变,这样就有可能进入能谷2中,同时吸引或发射一个声子。电子发生上述转移后,迁移率大大下降,漂移速度减小。对N型砷化镓,设n1,n2分别为处于能谷1和能谷2中的电子浓度,总电子浓度n=n1+n2,则平均迁移率可表示为,平均漂移速度就为第93页,共140页,星期日,2025年,2月5日当电场?较小时,n≈n1,当电场?很大时,当?大小介于以上二者之间时,电子正处于由能谷1向能谷2转移的过程中,n1不断减小,n2不断增大,因为μ1μ2,所以μ随?增大而减小,即υd不断减小。以上υd随?变化的定性分析可用图2-55表示。在?1??2区域内,迁移率由μ1变化到μ2,当ξ大于阈值电场?T时,有这表示半导体具有负微分电导(即负阻),此性质使砷化镓这类半导体具有重要作用。图2-55第94页,共140页,星期日,2025年,2月5日半导体处于负微分电导区,是产生耿氏振荡的必要条件。由于样品局部不均匀或热扰动,将在某处(一般总是阴极附近)引起微量空间电荷,若工作于正微分电导区,这一空间电荷将很快消失(正象导体内部不存在净电荷一样),而当工作于负微分电导区时,空间电荷将迅速增多,这是因为电荷区内电场比周围高,电子漂移速度比周围小,于是在它面向阳极的一侧便缺少电子,而面向阴极的一侧便有电荷的积累。这种由耗尽层和积累层构成的电荷偶极区,称为“畴”,可用图2-56表示。图2-56第95页,共140页,星期日,2025年,2月5日畴形成以后,其内部电场更强,引起电子进一步积累和耗尽。在畴的这个生长过程中,加在样品两端的电压恒定,使畴外电场减小,当它小到?T以下时,畴内电场也能增大到?2以上,这样两者都将越出负微分电导区。当畴内外电场分别为?b、?a时(图2-57),它们的υd相等,畴就停止生长,形成一个稳态畴。图2-57第96页,共140页,星期日,2025年,2月5日在畴的形成直至稳态以后的整个过程中,畴不断地由阴极向阳极漂移,如图2-58。它到达阳极后,畴消失,电流猛增。随后,样品又工作千负微电导区,又开始新畴的形成和转移,使电流迅速下降。样品周期性地重复以上过程,就构成了振荡电流(图2-59),这就是耿氏振荡。由上述分析可知,振荡频率即是畴形成的频率,ν=υ0/ι式中υ0为稳态畴的漂移速度,ι为样品长度。在电路中,负阻或负阻微分电导等价于正反馈,任何一点涨落都将在电路中引起振荡。利用耿氏效应工作的半导体器件叫做转移电子器件,俗称耿氏二极管,是重要的有源微波器件,用作微波振荡和放大器,也可以做成各种逻辑功能器件,具有高速率、易集成、高输入阻抗、高灵敏等优点。图2-58
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