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逃逸峰干扰逃逸峰干扰:重晶石中Al2O3时Ba的干扰第62页，共84页，星期日，2025年，2月5日重元素高次线干扰排除重元素高次线脉冲干扰:（ZrO2中HfO2)-HfLa.第63页，共84页，星期日，2025年，2月5日微处理机的作用－微机及数据处理微处理机的作用：1.控制仪器操作；2.各种参数的智能化选择；数据处理内容：1.光谱干扰与背景的校正计算；2.强度与浓度的回归分析计算；3.基体影响的校正；4.分析数据的统计分析；5.数据报表和通讯传输；6.数据的存储、图象显示及输出；7.各种函数计算。第64页，共84页，星期日，2025年，2月5日主操作软件薄膜分析管理工具无标分析实验校准统计过程控制分析设置第65页，共84页，星期日，2025年，2月5日系统设置屏第66页，共84页，星期日，2025年，2月5日数值显示报警极限显示方式控制钮光谱仪状态显示屏下拉菜单第67页，共84页，星期日，2025年，2月5日新应用设置:条件快捷进入钮显示信息和错误分段对话化合物和通道第68页，共84页，星期日，2025年，2月5日新应用:化合物表第69页，共84页，星期日，2025年，2月5日新应用:通道通道(自动产生)ChannelTypeLineX-talCollimatorDetectorTubefilterkVmAAngleOffsetBg1(o2T)OffsetBg2(o2T)下拉菜单操作按钮第70页，共84页，星期日，2025年，2月5日校准第71页，共84页，星期日，2025年，2月5日测量操作(自动进样器)第72页，共84页，星期日，2025年，2月5日制备校准曲线及基体影响校正计算自动校正基体影响第73页，共84页，星期日，2025年，2月5日统计过程控制(SPC)检查生产过程控制的稳定性设置控制极限检查产品出规的趋势采用X-R图监控软件自动设置第74页，共84页，星期日，2025年，2月5日SPC操作状态标准特点：SPC在线控制第75页，共84页，星期日，2025年，2月5日汇编分析程序选择“NewApplication”,显示对话框；输入程序名，点击“CreateNew”钮；显示程序汇编窗选择样品类型及制样条件汇编分析通道，化合物(定量分析)及背景通道汇编扫描测量程序(定性分析)汇编输入通道“xx$”(手工输入非分析浓度)汇编模块通道“xx*”(浓度函数运算)汇编通道时，也可使用元素周期表第76页，共84页，星期日，2025年，2月5日应用程序名输入窗第77页，共84页，星期日，2025年，2月5日汇编分析通道第78页，共84页，星期日，2025年，2月5日汇编化合物表第79页，共84页，星期日，2025年，2月5日输入通道、背景和模块通道汇编背景通道：xx-或xx+输入通道：xx$模块通道：xx*第80页，共84页，星期日，2025年，2月5日S校准曲线(a校正)第81页，共84页，星期日，2025年，2月5日校准结果与重现性AnalyteConcentrationrangeRMSS0-1000ppm13ppmSulfurConcentrationStd.Dev.123ppm3ppm第82页，共84页，星期日，2025年，2月5日S的校准曲线(用内标)第83页，共84页，星期日，2025年，2月5日校准结果与重现性AnalyteConcentrationrange(ppm)RMS(ppm)NiV(low)V(high)0-1000-3000-10003510NickelConcentrationStd.Dev.19.8ppm1.2ppm第84页，共84页，星期日，2025年，2月5日kV K系谱线L谱线60Fe-Ba Sm-U50Cr-Mn Pr-Nd40 Ti-V Cs-Ce30 Ca-Sc