光学邻近校正方法.pdfVIP

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2023-05-29 发布于四川
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光学邻近校正方法.pdf

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本发明提供了一种光学邻近校正方法，包括如下步骤：提供包括阵列区域和非阵列区域的光掩膜版图设计，阵列区域包括多个至少一种重复图形；对阵列区域进行第一光学邻近校正，在多个重复图形中选择一个作为特征图形进行光学邻近校正，将其光学邻近校正结果应用于其他重复图形；对非阵列区域进行第二光学邻近校正，对每个图形一一进行光学邻近校正。本发明针对阵列区域和非阵列区域分别进行第一光学邻近校正和第二光学邻近校正，有效减少了阵列区域中重复图形之间的特征尺寸波动，改善了晶圆面内特征尺寸的均匀性，提升了器件良率。

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 112415847 A (43)申请公布日 2021.02.26 (21)申请号 202011307961.9 (22)申请日 2020.11.20 (71)申请人长江存储科技有限责任公司