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cpa型磁控溅射设备靶改进及磁场模拟分析分析word格式论文
目录第一章绪论..................................................................................................................11.1 磁控溅射技术发展历程及现状................................................................................11.1.1二极溅射...........................................................................................................11.1.2三极溅射...........................................................................................................11.1.3磁控溅射...........................................................................................................21.2论文研究的背景和意义...........................................................................................51.3本文主要的工作内容...............................................................................................5第二章磁控溅射的原理及分类技术..........................................................................62.1多靶磁控溅射技术...................................................................................................82.2平衡磁控溅射技术...................................................................................................82.3非平衡磁控溅射技术...............................................................................................92.4 脉冲磁控溅射技术..................................................................................................112.5反应磁控溅射技术.................................................................................................122.6高速率溅射和自溅射.............................................................................................132.7本章小结.................................................................................................................15 第三章影响溅射镀膜主要因素分析........................................................................16 3.1辉光放电现象.........................................................................................................163.2 电荷粒子在电磁场中运动轨迹的分析...............................................................183.2.1MonteCarlo基本理论183.2.2电荷4 粒子在电磁场中的跟踪方法........
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