asihcsi薄膜生长的分子动力学模拟研究word格式论文.docxVIP

摘要a-Si:H/c-Si 异质结太阳电池既利用了薄膜制造工艺的优势，同时又发挥了晶体硅和非晶硅的材料性能特点，具有实现高效低成本硅太阳电池的发展前景。本文尝试应用分子动力学模拟研究a-Si:H/c-Si 薄膜生长，主要模拟考察了生长温度、基团入射动能、入射频率对在Si(001)面及Si(111)面上a-Si:H 薄膜生长及其结构的影响，并采用Voronoi多面体结构分析方法分析了的它们的原子结构，得到以下结论：（1）对不同衬底温度下a-Si:H/c-Si(001)及a-Si:H/c-Si(111)薄膜生长模拟研究发现：随温度的升高，在两种衬底表面上生长的a-Si:H 薄膜表面都是越光滑，内部越致密，同时SiH含量、H含量和悬挂键密度均下降。不同的是在Si(111) 面生长的薄膜表面粗糙度随温度降低的线性关系更明显，且在同温下其内部致密度比Si(001)面生长的薄膜较小。并进一步分析讨论了造成这些结果的原因。（2）对不同入射动能下a-Si:H/c-Si(001)及a-Si:H/c-Si(111)薄膜生长模拟研究发现：随着入射动能增大，在两种衬底表面上生长的a-Si:H 薄膜表面越光滑，内部结构越致密，H含量和悬挂键密度均下降，且它们变化的速率都先快后慢，SiH 含量则是先降后升，不同的是，在Si(001)表面生长时，SiH 含量变化对应的入射动能分界点为0.65 eV，而Si(111)为0.16eV。同时进一步分析讨论之。（3）在不同入射频率下a-Si:H/c-Si(001)及a-Si:H/c-Si(111)薄膜生长模拟研究得到：薄膜形貌及内部紧密程度与入射频率的关系不大，SiH 含量、H含量和悬挂键密度均变化不大，其原因是入射频率对SiH3基团的吸附率、到达表面后的运动和成膜后原子的晶化率等都没有明显的影响。（4）氢化非晶硅薄膜中近邻Voronoi多面体拓扑结构十分复杂，按多面体指数法难以有效统计。但其度量性质研究发现：低温下生长薄膜结构要比高温下更复杂；且随着温度的升高，出现孔洞结构的几率要更小，Voronoi多面体越接近球形结构，其歪扭程度更低。（5）运用最近邻Voronoi多面体分析表明，随着温度的升高，在Si(001)面及Si(111)面生长的a-Si:H薄膜中最近邻原子间形成的四面体4,0,0,0局域结构含量增加，反映出最近邻原子局域结构趋于四面体化；在Si(001)面入射动能小于0.04 eV及在Si(111)面入射动能小于0.16 eV时，随着入射动能的增大在两个I面生长的薄膜局域结构趋向于四面体化排列，而高于该能量后再增大入射动能对薄膜结构局域四面体化排列改变影响不大。（6）运用次近邻Voronoi 多面体分析表明，随着温度升高，入射动能的增加，在Si(001)面及Si(111)面生长的a-Si:H 薄膜其低配位多面体0,4,4,0、1,3,3,1、0,4,4,1、0,3,6,0及0,4,4,2等含量降低，而高配位下的0,3,6,3、0,2,8,2、0,4,4,4及0,3,6,4多面体含量增加，这四种次近邻Voronoi多面体的含量增加反应了薄膜中硅原子次近邻原子间的局域类晶体结构排布增强。关键词：分子动力学模拟；a-Si:H 薄膜生长；Voronoi 多面体IIABSTRACTa-Si:H/c-Siheterojunctionsolarcelltakesnotonlytheadvantageofthin-film manufacturingtechnology,butalsotheadvantagesofbothcrystallinesiliconand amorphoussilicon.Ithasthepotentialprospecttobeahigh-efficiencyandlow-cost siliconsolarcell.Thispaperattemptstoapplymoleculardynamicsmethodto simulatethegrowthofa-Si:H/c-Sithinfilm.Theeffectsofsubstratetemperature, incidentkineticenergy,incidentfrequencyandgrowthplaneofsubstrateonthethe a-Si:Hfilmstructuralcharacteristicswereinvestiaged.TheVoronoipolyhedral structureanalysismethodwasappliedtoanalyzethearrangementofatoms.The results areas follows:(1)Thestudiesofa-Si:H/c-Si(001)anda-