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K+P常见异常处理方法刻蚀常见异常及处理方法预抽抽不下去（预抽结束时压力大于500Pa或预抽已超过设定时间却不进行下一步）：可能原因1)刻蚀机盖子没有盖紧；2）机械泵传动带松动；3）泵油需要更换；4）管道借口漏气；5）石英缸破裂。处理方法：通知设备维修。主抽抽不下去（主抽结束时压力大于15Pa）：可能原因及处理方法同1.1。送气时气体流量超出允许范围（CF4流量为210±15 sccm，O2流量为21±3 sccm），同时可能附带有报警声音或报警灯闪烁：可能原因1）质量流量计损坏；2）管道堵塞或接口漏气；3）动力供应异常。处理方法：确认是否是动力供应异常，并通知设备维修，同时将该组片子在其他刻蚀机重刻。辉光时报警：可能原因1）辉光时功率超出设定范围（500W-600W）2）气体流量超出设定范围。处理方法：通知设备维修，同时将该组片子在其他刻蚀机重刻后附实验单下传，追踪其电池性能（注意在打开刻蚀机盖前必须抽空反应室内气体）。辉光时压力或功率超出设定范围（压力100±20 Pa，功率500W-600W，一般要求不低于550W）:可能原因1）泵油需要更换2）气体流量未达到设定范围。处理方法：通知设备维修，同时将该组片子在其他刻蚀机重刻后附实验单下传，追踪其电池性能（注意在打开刻蚀机盖前必须抽空反应室内气体）。刻蚀完毕后不能打开盖子：可能原因是充气设定时间过短导致内部压力太低。处理方法：可手动充气打开刻蚀机盖，若多次出现此种情况，可将充气设定时间适当加长。刻蚀后硅片边缘发黑：原因尚不明确。处理方法：若P/N型检测无异常，可附实验单下传，并追踪其电池性能。刻蚀后PN检测异常及处理方法2.1 反面检测呈N型：可能原因1）超净装片时装反；2）双面扩散；3）反面扩散；4）P/N型检测仪不合格或出现故障。处理方法：1）检查P/N型检测仪，用手触摸热探针是否正常发热，或换其他P/N型检测仪重新检测；2)重新检测并检测该组其他硅片是否异常，若是，则联系超净工艺工程师确认是否为反面扩散或装片装反；3）若装片装反，则返超净重新装片，检测无异常附实验单下传，并追踪其电池性能；若为反面扩散且超净工艺工程师同意下传，则附实验单下传，并追踪其电池性能。2.2 硅片侧面检测呈N型：可能原因1）刻蚀不完全；2）未刻蚀；3）P/N型检测仪不合格或出现故障。处理方法：1）检查P/N型检测仪，用手触摸热探针是否正常发热，或换其他P/N型检测仪重新检测；2）重新检测后仍为N型，查找刻蚀该组硅片的刻蚀机，通知设备并同设备一起检查该刻蚀机是否有异常，该组片子在其他刻蚀机重刻后附实验单下传，并追踪其电池性能。3）若刻蚀机有异常，待设备修好后做复机实验；若无异常，注意查看该刻蚀机后续生产时的工作状况有无异常并注意观察该刻蚀机后续生产硅片的电池性能有无异常。2.3 其他异常：1）有些员工凭经验可以判断硅片的正反面，但是与P/N型检测仪检测的结果不同；2）硅片正反两面检测结果均为P型或N型。处理方法：1）原则上P/N型检测仪只用于检测硅片的反面，不允许检测正面，一面破坏PN结；2）对于不能判断正反面的，可返超净由超净工艺工程师确认，若可以下传，可附实验单下传，并追踪电池性能。3、 PSG清洗常见异常及处理方法3.1 每班出现500片清洗不净硅片，无论任何时间，必须立即通知主管工艺工程师；出现1000片清洗不净，无论任何时间，必须立即通知工艺部经理。3.2 自动清洗机出现的所有报警，均需首先通知设备，由设备确认是否为动力或设备异常。3.3 清洗机换酸后走实验片的原则是循序渐进，每次实验由5片，到半篮、一篮、一框，防止一次出现大量清洗不净。3.4 自动清洗出现清洗不净:可能原因1)换酸周期(24小时换一次)到;2)清洗机某槽受其他物质污染;3)设备故障导致硅片清洗时间改变。处理方法：1）若确认设备无故障，重新换酸；2）换酸后走实验片看是否能清洗干净；3）若仍清洗不净可适当增加HF酸用量，走实验片观察；4）若仍未解决通知主管工艺工程师。3.5 手工清洗出现清洗不净：可能原因1）刚换完酸，溶液尚未混合均匀；2）硅片在酸槽停留时间过短（或过长）；3）硅片水槽停留时间过短（或过长）；4）换酸周期（24小时换一次）到。处理方法：1）刚换完酸容易出现清洗不净，一般一个小时之后会正常；2）硅片在各槽停留时间要严格按照工艺要求执行，过长或过短都会造成清洗不净，若出现清洗不净可适当增加或减少在酸槽的停留时间；3）手工清洗不净的片子可在自动清洗机里走少量做实验。4、 烘干机异常及处理方法 4.1 工艺设定温度为60℃，氧气流量20 L/min，时间 360 秒，氮气流量 15 L/min，时间180秒（若参数有变化，以机台旁边所贴工艺卡为准），若设备不能达到所设定的温度、时间或流量，通知设备解决。5、 板式