利用总积分散射仪对光学薄膜表面散射特性的研究!-物理学报.pdfVIP

第 卷 第 期 年 月 物 理 学 报 $ ) %%) ) ， ， ， V?= 6$ U? 6) .GPFG3WG- %%) （ ） !%%%;’)%Q%%)Q$ %) Q(1$;%$ KT/K OS*.JTK .JUJTK !%%) T02 6 OXC 6 .?D 6 利用总积分散射仪对光学薄膜表面散射特性的研究! ）） ） ） ） ） ） ） ! # 侯海虹 孙喜莲 田光磊 吴师岗 马小凤 邵建达 范正修 !）（常熟理工学院物理系，常熟 !$$%% ） ）（中国科学院上海光学精密机械研究所，上海 %!%% ） （ 年 月 日收到； 年 月 日收到修改稿） %% ’ ( %%) ! ! 利用总积分散射仪对不同条件下制备的金属银膜、 稳定 （ ）薄膜、 薄膜和 与 双 * + ,-+ *., /0+ !%(1 23 $’ 23 ’ 波长增透膜的表面均方根（ ）粗糙度和散射特性的变化规律进行了系统研究，并与样品的制备条件、生长过程、 45. 材料组成及光学特性等各方面相结合，对测量结果做出了合理解释，从而使总积分散射测量在其他领域的研究得 以扩展和应用6 关键词：光学薄膜，表面散射，总积分散射仪 ： ， ， !## (%% 7!%8 1$8 测量结果，从样品的制备条件、生长过程、材料组成 !E 引 言 与光学特性等不同角度出发，对影响和决定样品表 面45. 粗糙度和散射特性的主要因素进行了探讨 光学薄膜的微粗糙度指其表面的均方根（ -??F 和分析6 ， ）粗糙度，它通常要远远小于测量 3G2 CHA-G 45. 波长，为纳米量级甚至更低，是光学薄膜本身和制备 E 不同厚度金属银膜的表面散射 过程所产生的必然结果6 由45. 粗糙度引起的表面 散射对光学薄膜元件的光学特性与物理特性，如反 $ % % 样品制备和测试 射率、散射损耗、薄膜形成、薄膜的表面破坏阈值等 有十分重要的影响，对某些光学元件甚至起着决定 利用直流磁控溅射方法在室温下沉积了一系列 ［］ 性作用! 6 特别是随着光学技术的飞速发展及光学 不同厚度的金属 膜，靶材为 的 靶，基