扫描式电子显微镜Scanning Electron Microscope.PPT

掃描式電子顯微鏡Scanning Electron Microscope 組員:吳儒炫 曾閔致 江鎧任 目錄 何謂電子顯微鏡 何謂SEM SEM發展 SEM工作原理 二次電子與背向散射電子介紹 SEM外觀介紹 SEM如何成像 參考資料 何謂電子顯微鏡 電子顯微鏡(electron microscope)是指利用電子束與物質的交互作用所產生的繞射現象，配合電磁場偏折與聚焦電子等原理，製備而成的精密儀器。 可分析晶體結構、微組織、化學成分、電子分佈等儀器。 何謂SEM 掃描式電子顯微鏡 Scanning Electron Microscope 原理基本相同，掃描式電子顯微鏡以二次電子或背向散射電子來呈像 。 景深（Depth of Focus）大，對於研究物體之表面結構功效特別顯著，例如材料之斷口、磨損面、塗層結構、夾雜物等之觀察研究。 SEM是一高性能又快速的檢測工具。 SEM發展 1935年提出掃描式電子顯微鏡（SEM：Scanning Electron Microscope） 1938第一部掃描電子顯微鏡由Von Ardenne發展成功。 低真空度以及可控制氣氛SEM的發展，也使得SEM的應用範圍更為廣大。 SEM工作原理 由電子槍 發射電子束，經過一組磁透鏡聚焦聚焦後，用遮蔽孔徑選擇電子束的尺寸後，通過一組控制電子束的掃描線圈，再透過物鏡聚焦，打在試片上，在試片的上側裝有訊號接收器，用以擇取二次電子 或背向散射電子 成像。 SEM工作原理 二次電子與背向散射電子介紹 二次電子(secondary electrons，SE) 電子入射將傳導帶中低束縛能的電子打出試片即為SE，其以非彈性碰撞的方式散射。 背向散射電子(Backscattered electrons，BSE) 入射電子束打到試片表面上時，因庫倫作用力的關係，使得能量有部分損失或無損失之電子則完全彈性散射回來，即為BSE。 二次電子與背向散射電子介紹 SEM外觀介紹 SEM如何成像 SEM如何成像 參考資料 網站: 景深的形成:/blog/post/8867634-%5B%E6%94%9D%E5%BD%B1%E6%95%99%E5%AD%B8%5D-%E6%99%AF%E6%B7%B1%E7%9A%84%E5%BD%A2%E6%88%90 SEM:.tw/caster/3/no3/3-2.htm SEM原理:.tw/~me010/thdoc/962/SEM-1.pdf 實作訓練: /doc%E6%8E%83%E7%9E%84%E5%BC%8 F%E9%9B%BB%E5%AD%90%E9%A1%AF%E5%BE%AE%E9%8F%A1%E5%AF%A6%E4%BD %9C%E8%A8%93%E7%B7%B4%E6%95%99%E6%9D%90-Teaching-Guide-for-The-Operation-of-Scanning-Electron-Microscopy SEM(S5000):.tw/intr/intr2/c3s000/corelab/microscope/instr_2e.htm 掃描式電子顯微鏡說明:/question/question?qid=1011020809213 * 圖一 圖二 圖三 圖形介紹與能量比較 圖四 SE成像 圖五BSE成像 圖六 圖七 鏡下世界 圖八 圖九 *