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第二十三讲si表面和金属-氧化物-半导体结构(续)内容阅读作业
2002 秋季 6.720J/3.43J 集成微电子器件 Prof. J. A. del Alamo
Si
第二十三讲 表面和金属-氧化物-半导体结构 (续
10月28,2002
内容:
1. 在非热平衡时理想的MOS结构(续
阅读作业
del Alamo Ch. 8 §§8.3 8.3 8.3.2 8.3.5
, ( -
讨论会:
10 29 C. Ka an IBM Rm. 34 101 4
月 - ( ):用于分子器件的材料。 - ,下午 点。
2002 秋季 6.720J/3.43J 集成微电子器件 Prof. J. A. del Alamo
主要问题
泊松 -玻尔兹曼方程能用来产生一个MOS结构在不同区域工作的简单一阶模型吗?
反型层在“开启”和“关断”时有多明显?
2002 秋季 6.720J/3.43J 集成微电子器件 Prof. J. A. del Alamo
1. 在非平衡时理想MOS结构 (续
□ 下几个视图:为计算的结果:
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[ S. Mertens ]
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