基于线结构光的微V型槽三维尺寸测量技术研究与实践.docx

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2025-07-29 发布于上海
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基于线结构光的微V型槽三维尺寸测量技术研究与实践

一、绪论

1.1研究背景与意义

在现代制造业不断追求高精度和高性能的背景下，微V型槽作为一种关键的微观结构，在微电子、光电子、微机电系统（MEMS）等众多前沿领域中扮演着举足轻重的角色。在微电子器件制造过程里，微V型槽常被用于构建芯片内部的精细电路结构以及实现不同芯片间的电气连接，其尺寸精度和表面质量直接决定了电子器件的性能、稳定性以及信号传输的准确性。以大规模集成电路为例，微V型槽的尺寸偏差若超出允许范围，极有可能引发电路短路、信号衰减等严重问题，进而导致芯片功能失效，极大地影响电子产品的质量和可靠性。在光电器件领域，微V