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* 1.3 MOSFET原理 (沟道电导)漏导:模型 沟道电导(漏导):VGS一定时,漏电流随VDS的变化率 表明线性区导通能力(导通电阻) 器件开关应用时,一般工作在线性区。原因? 第五十四页,共六十七页,2022年,8月28日 * 1.3 MOSFET原理 漏导:影响因素 增加线性区沟道电导的途径? 非饱和区漏导等于饱和区跨导 第五十五页,共六十七页,2022年,8月28日 * * 1.3 MOSFET原理 MOSFET分类(1) n沟道MOSFET:NMOS p沟道MOSFET:PMOS 分类方法1:按照沟道载流子的导电类型分 沟道电流: VGSVT,加VDS NMOS(VDS0);PMOS(VDS0) 第二十二页,共六十七页,2022年,8月28日 * 1.3 MOSFET原理 MOSFET分类(2) n沟道增强型MOSFET (E型:Enhancement) 零栅压时不存在反型沟道,VTN0 n沟道耗尽型MOSFET (D型:Delption) 零栅压时已存在反型沟道,VTN0 问题:不进行专门的N型掺杂,能否形成耗尽型NMOS?? 分类方法2:0栅压是否存在反型沟道分 第二十三页,共六十七页,2022年,8月28日 * * 1.3 MOSFET原理 MOSFET分类(3) p沟道增强型MOSFET 零栅压时不存在反型沟道,VTP0 p沟道耗尽型MOSFET 零栅压时已存在反型沟道,VTP0 思考:N衬表面若不进行专门的P型掺 杂,能否形成耗尽型PMOS? 第二十四页,共六十七页,2022年,8月28日 * * 1.3 MOSFET原理 MOSFET分类(4) 四种MOS晶体管 N沟增强型;N沟耗尽型;P沟增强型;P沟耗尽型 第二十五页,共六十七页,2022年,8月28日 * * 1.3MOSFET原理 VGS的作用 VT:MOS电容半导体表面是否强反型的临界电压。 强反型层存在-----MOSFET的沟道存在。 VT:刚刚产生沟道所需的栅源电压VGS vGS 越大,沟道载流子越多,在相同的vDS作用下,ID越大。 第二十六页,共六十七页,2022年,8月28日 * * 1.3 MOSFET原理 VDS的作用 场感应结:n型沟道和P型衬底。 VDS使沟道上压降从源到漏增加,场感应结反偏压增加,耗尽层增 厚,栅上电压不变,反型层厚度渐? * VDS的作用:(VGSVT) 形成沟道电流: NMOS(VDS0)PMOS(VDS0) 载流子迁移率为表面迁移率,不等于体内u。 对Vox起抵消作用:沟道从源到漏厚度渐? 沟道x点处沟道电荷Qn`=COX(VGS-Vx-VT) 第二十七页,共六十七页,2022年,8月28日 * * 1.3 MOSFET原理 IV特性 共源连接NMOSFET:输入端:GS, 输出端:DS 输出特性 转移特性 偏置特点:VGSVTN,VDS0 沟道形成 形成沟道电流: 对VGS起抵消作用:沟道从源到 漏厚度渐? 第二十八页,共六十七页,2022年,8月28日 * 1.3 MOSFET原理 ID随VDS的变化(1) 线性区 第二十九页,共六十七页,2022年,8月28日 * 1.3 MOSFET原理 ID随VDS的变化(2) 过渡区 第三十页,共六十七页,2022年,8月28日 * 1.3 MOSFET原理 ID随VDS的变化(3) 饱和点 沟道夹断点X:反型层电荷密度刚好近似=0 VGX=VT,VXS=VDS(sat) 第三十一页,共六十七页,2022年,8月28日 * 1.3 MOSFET原理 ID随VDS的变化(4) 饱和区 第三十二页,共六十七页,2022年,8月28日 * 1.3 MOSFET原理 转移特性曲线 n沟道MOSFET p沟道MOSFET VGS VGS VGS 越大,沟道载流子越多,在相同的漏源电压VDS作用下,漏极电流ID越大。 反型层形成后,因反型层在G和B间起屏蔽作用,即VGS变,电荷由S和D提供,非衬底。 第三十三页,共六十七页,202
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