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蓝宝石衬底上水平生长zno纳米线及紫外敏感性能研究 horizontal growth and ultraviolet sensitivity characteristics of zno nanowires on sapphire substrates
第 卷 第 期 半 导 体 学 报
28 1 VOl.28 NO.1
年 月
2007 1 CHINESEJOURNAL OF SEMICONDUCTORS Jan. 2007
蓝宝石衬底上水平生长ZIo纳米线及
紫外敏感性能研究e
! !
1 T 1 2 1 1 1
邓 宏 唐 斌 程 和 韦 敏 陈金菊
电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室 成都
1 610054
西南石油大学理学院 成都
2 610500
摘要!在无催化剂条件下 采用化学气相沉积 方法在蓝宝石 衬底上制备了 纳米线 射线衍
CVD 110 ZnO .X
射 图谱上只有 的 衍射峰和 衍射峰 扫描电子显微镜分析表明 纳米线在蓝宝石衬
XRD ZnO 100 110 . ZnO
底上水平生长.在样品上蒸镀了金叉指电极 以256nm 的紫外光作为光源 测试了样品的紫外光敏感性能 研究
表明水平生长的 纳米线对紫外光具有较快的响应 在 偏压下 光电流与暗电流比为 当波长为
ZnO 5V 30
时光响应度达到最大值为
354nm 0.56A W.
关键词! 纳米线 紫外敏感 特性 光响应度
ZnO I-V
PACC 7360L 8115H 7970
中图分类号! 文献标识码! 文章编号! #
O462 A 0253-4177 2007 01-0056-04
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