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国内工业陶瓷文献题录及文摘(三十三) 示例：顺序号文献题名(文种，中文略)·刊名，年，期 本栏报道的是我刊编辑部最近收集到的工业陶瓷文献。读者如需复印，可直接 与我刊编辑部联系，但请写明“顺序号、文献题名、刊名、年、卷、期”等内容。收费标 准：每篇18元(包括检索费、复印费及邮寄费)。 2009001碳化硅陶瓷先驱体聚甲基硅烷的研究进 低激光振荡阈值。 展·硅酸盐学报，2009，5 2009003 Nd‘3叫：kCaB80…、晶体生长及光谱性 介绍了聚甲基硅烷的主要合成方法和性能， 能·硅酸盐学报。2009，5 特别是其反应活性和高温热裂解性能。综述了 采用高温固相法合成了Nd3+：h：CaB。O，。 聚甲基硅烷及其改性先驱体应用于制备碳化硅 (Nd：LcB。)多晶料，以caB。o，为助溶剂，采用顶 纤维、碳化硅基复合材料、多孔陶瓷材料等领域 部籽晶法生长了Nd：LcB8单晶。x射线衍射和 的研究进展。聚甲基硅烷作为碳化硅陶瓷先驱 差热分析结果表明：Nd：LCB8和LcB8具有相同 体，其制备简单、热解产物接近碳化硅的化学计 的晶体结构；Nd：LcB。晶体的熔点为1046℃。 量比，具有广阔的应用前景。未来该领域的研究 测试了Nd：LCB8晶体的吸收光谱和荧光光谱。 重点是聚甲基硅烷的规模化合成，低成本改性聚 在300～1000nm波段存在多个吸收带，其中 802 甲基硅烷先驱体研究，聚甲基硅烷系列复合先驱 nm吸收带对应于AlGaAs激光二极管的输出 ’ nm 体的制备等。 波长，带宽为19砌。在890，1060nm和1330 2009002铒镱共掺钨酸钆钾激光晶体的光谱性能 处分别存在发射峰，室温下测得Nd：LC取晶体的 及光谱参数计算·硅酸盐学报，2009，5 荧光寿命为75¨s。 。 采用顶部籽晶溶液法生长出铒镱共掺钨酸 2009004不同电解质溶液及其离子浓度和pH值 钆钾[Er3+’：Yb3+：KGd(w04)2，Er：Yb：KGw]激对改性微滤膜流动电势的影响·硅酸盐学报， 光晶体。测量了晶体的红外光谱、Ram卸光谱、 2009。5 吸收光谱和发射光谱，分析了晶体的振动模式， 采用商品级仅一Al：O，微滤膜，由均质共沉 并对晶体振动光谱进行归属。利用Judd—Ofelt 淀法制备了TiO：改性q—m：03微滤膜。研究了 理论计算晶体的吸收及发射截面、强度参数、辐 不同的电解质溶液、溶液的离子浓度和pH值对 射跃迁几率、荧光分支比和荧光寿命等光谱参 TiO：改性的仅一Al：O，微滤膜流动电势的影响规 数。结果表明：Er：Yb：KGW晶体在380，523，律。结果表明：对于NaCl溶液，膜流动电势随溶 935啪和98lnm处存在较强的吸收峰，主峰 液离子浓度的增大而降低，其等电点在4．3左 98lnm处的吸收截面为3．35×10～cm2。强度 右；随着溶液的pH值由3增加到10，膜流动电势 x10一cm。，化=1．2956× 参数为Q2=1．0729 由正值逐渐变为负值。而对于FesO。，CaSO。， 10—20 cm