Cu（Ⅱ）-Ethylenediamine-NH4Cl-NH3-H2O体系稀溶液铜电积新工艺研究.pdfVIP

第32卷第 3期 甘 肃 冶 金 V01．32 No．3 2010年 6月 GANSU METALLURGY Jun．，2010 文章编号：1672-4461(2010)03-0043-04 Cu(H)一Ethylenediamine-NH4CI-NH3·H2O 体系稀溶液铜 电积新工艺研究 鲁兴武 ，张建斌 ，马爱军 ，刘 维。 (1．白银有色集团股份有限公司技术中心，甘肃 白银 730900；2．白银有色集团股份有限公司铜业公司，甘肃 白银 730900； 3．中南大学 冶金科学与工程学院，湖南 长沙 410083) 摘 要：本文重点用控制变量的方法研究了在氨体系中温度、电流密度、铜离子浓度、pH等对电积过程中电流效率 与槽电压的影响，总结了在稀溶液铜(Ⅱ)一氯化铵一氨一水体系中铜电积的一些规律。 关键词：氨体系；铜电积；槽电压 ；电流效率 中图分类号：TFSll 文献标识码：A NewProcessStudyonCopperElectrowinningFrom Copper(Ⅱ)- Ethlenediamine．ammoniunlChloride．．ammonia．dilute LUXing．WU ，ZHANGJian．bin，MAAi-jun。，LIUWei (1．TechnologyCenterofBNMC，Baiyin730900，China；2．CopperCompanyofBNMC，Baiyin730900，China； 3．CollegeofMetallurgicalScienceandEngineeringofCSU，Changsha410083，China) Abstract：Thispaperdealswithhteeffectoftemperature，currentdensity，copperionconccn~afionandphtocurrenteffi- eiencyandcellvoltageduringthecouleeofcopperclectrowinninginammoniasystem andsummarizessomelawsofelectro depositedcopperincopper(II)-arlunoniunlchloride·ammonia—H20system． KeyW ords：ammoniasystem；copperelectrowinning；cellvoltage；currentefficiency A ·m-2~ 温度为室温、异极距为4cm、pH值为8．84、 1 引言 起始铜离子浓度为 30g ·L～、总 乙二胺浓度为 目前，处理低品位矿氧化铜矿及铜锌复杂矿大 1mol·L～、总氨浓度为 2mol·L～、总氯浓度为 多采用硫酸浸出一萃取处理，这种工艺虽然成熟可 2mol·L一，改变某一特定条件考察该因素对电积过 靠，但金、银不能回收且碱性脉石含量高的矿石酸耗 程的影响，电积过程中每隔一段时间取样分析溶液 大，浸出液处理工艺复杂，成本高。采用氨法处理酸 中的铜浓度，并记录槽电压。试验装置如图1。 溶性杂质元素不进入浸出液，浸出液质量高。本文 通过试验对氨体系中温度、电流密度、铜离子浓度、 pH对铜电积的槽电压、电流效率的影响做了详细的 论述。 2 试验 2．1 试验方法 试验主要考察操作条件 (电流密度、温度、异极 距、pH值)和电解液成分 (铜离子浓度、总乙二胺浓 度、总氨浓度、总氯浓度)对电流效率与槽电压的影 响。采用单 因素试验方法，固定 电流密度为 150 图1 实验装置图