不同升温热处理方式二氧化钒薄膜的制备与光学相变性能.pdfVIP

第29卷第6期 红外与毫米波学报 V01．29，No．6 2010年12月 J．InfraredMillim．Waves December，2010 文章编号：1001-9014(2010)06—0457—04 不同升温热处理方式二氧化钒薄膜的 制备与光学相变性能 梁继然1”，胡 明1，王晓东2， 阚 强2，李贵柯2， 陈弘达2 (1．天津大学电子信息工程学院，天津300072；2．中国科学院半导体研究所，北京100083) 摘要：采用双离子柬溅射方法制备氧化钒薄膜，分别利用常规和快速两种升温方式对氧化钒薄膜进行热处理，利用 傅里叶变换红外光谱技术对热处理后氧化钒薄膜的变温光学透射性能进行测试，并对51．Lm波长处透过率随温度 的变化曲线进行相变特性分析．实验结果表明，经过常规和快速升温热处理后均获得了二氧化钒薄膜：快速升温热 处理后得到的薄膜中二氧化钒晶粒较小，尺寸分布均匀；而常规升温热处理后的二氧化钒薄膜中晶粒尺寸分布较 宽、常规和快速升温热处理后，氧化钒薄膜的光透过率均存在可逆突变特性，变化幅度均超过60％．相变性能分析 结果表明，快速升温热处理获得的二氧化钒薄膜相变持续的温度宽度较大，光学相变温度为63．74。C．高于常规升 温热处理的60．3l℃． 关键词：氧化钒薄膜；红外透射光谱；快速升温 中图分类号：0484；0434文献标识码：A PHASETRANSITIoN oFVANADIUMOXIDEFILMS ANNEALEDWITH DIFFERENTMETHoDS LIANG Ji—Ranl·2，HUMing‘，WANGXiao．Don92，KANGui．Ke2，CHEN Qian92，u Hong．Da2 ofElectronicandInformation (1．School Engineering，Tianjin 300072，China； University，Tianjin 2．instituteof of Semiconductors，ChineseAcademySciences，Beijing100083，China) oxidethinfilmswere Abstract：Vanadium dualionbeam thenannealledwithdifferent depositedby sputtering，and proce． duresof transmissionwere measuredatdifferent USeofFourier temperatureelevating．Opticalproperties temperatureby transforminfrared whichthe oftransmission and atafixed of was spectrum，fromrelationship temperaturewavelength5斗m