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ITO玻璃在线等离子体清洗的研究
吴桂初‘ 王德苗任高潮阵抗生
隘州郧瓿拳院钫理篡滢州32300=3)(浙扛大学位喜与电子工程蒙杭州3t0027)
摘要在沉积ITO(或sIoj)麒之前,透过在线等离子体清洗萋片表面.不但可以获得
优良光电特性的ITO腰.而且提高了膜屡在基片上的附着力.与未经在线等离子体请冼相
比,展层附着力提高了3.5倍.此项成果已在ITO麒遗明导电玻璃连续生产线上得判应用·
关键讽等离子体袁面处理[TO麒附着力
SURFACEOFITOGLASSBYPLASMA
STUDYOF
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WuGuJ.chu
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Abstract the翱血ce cleaning
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Keywords proc嚣s遍&ITO五】m孓coh喊on
plasme,翱rface
氧化铟锡(tTO)膜导电玻璃由于具有高的可见光透过率和导电睾,而被用作液晶显示
(LcD)等平板显示器的透明导电电极.利用直流或射频磁控反应溅射技术,通过光谱法控制
ITO膜沉积速度llJ,能够获得均匀一瑟的可见光透过翠和导电辜的ITO膜导电玻璃.然而要
生产出高质量的LCD.还要求ITO膜层针孔少,表面无颗粒,膜层粘附力强.如果表面有
颗粒、大面积针孔或粘附力不强而脱落.将会在液晶显示屏上出现暗点或暗斑,严重影响LCD
的质量.用常规清洗烘千处理玻璃基片,很赡彻底清除吸附在表面的异物,又由于在运输、
搬运过程中其表面仍暴露在大气中。难免会吸f}}上环境气体、水汽和徽生。如果不加处理.
会造成膜层与基片结合力不强.产生针孔和颗粒.车文报导通过在线等离子体处理,来清洗
基片上吸附的环境气体、水汽和污物,同时使基片表面活化.增强ITO膜与基片表面的结合
力.
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