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本申请是申请号：2019108101963，申请日：2019.8.29，发明名称：优化通孔层工艺窗口的辅助图形及方法的分案申请。本发明公开了一种优化通孔层工艺窗口的辅助图形，是适用于掩膜版中用于光学邻近效应修正，所述辅助图形为封闭的结构，还具有主图形位于所述辅助图形的中心区域，所述辅助图形位于主图形的外围，形成封闭的包围结构；所述辅助图形为至少两层的多层嵌套的封闭结构，其为SRAF图形，为封闭的多边形或者类似环形，至少包含有水平、垂直、45度、135度的边，各层结构之间具有一定的间距。
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116360205 A (43)申请公布日 2023.06.30 (21)申请号 202310333927.6 (22)申请日 2019.08.29 (62)分案原申请数据 201910810196.3
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