显示与成像技术-第一部显示第三章3液晶广角技术技术介绍.pptVIP

LCD宽视角化技术的进展;;理论上在玻璃电极板通电时，光线透过垂直于基板的液晶分子后是无法穿透第二块偏振片的，但实际上此时若在某些特定角度范围内会看到液晶分子的长轴，即该角度上的透光率反而增加了，这样低灰阶的画面看上去可能比高灰阶的亮度还高，这就是TN模式液晶显示器所固有的灰阶逆转现象。 ;从上面的视角特性图我们可以看出，TN模式液晶的视角特性很不均匀，其垂直方向视角远比水平视角要差，而且在屏幕下方较大的角度范围内都会看到灰阶逆转。 ;（一）相差膜补偿法;补偿膜并不只贴在液晶面板表面侧，而是液晶盒的两侧。 当光线从下方穿过补偿薄膜后便有了负的相位延迟（因为补偿薄膜△n＜0）,进入液晶盒之后由于液晶分子的作用，在到液晶盒中间的时候，负相位延迟给正延迟抵消为0。 当光线继续向上进行又因为受到上部分液晶分子的作用而在穿出液晶盒的时候有了正的相位延迟，当光线穿过上层补偿薄膜后，相位延迟刚好又被抵消为0。 这样用精确的补偿薄膜配合TN模式液晶可以取得很好的改善视角效果。 ;（1）由于TN模式液晶显示器在加电后呈暗态，未加电时呈亮态，因此它属于NW（Normal White常亮）模式液晶。当由于各种因素造成某些像素上的TFT（薄膜晶体管）损坏时，电压就无法加到该像素上，这样该像素上的液晶分子无法得到扭转的动力，在任何情况下光线都将穿透液晶盒两端的偏振片使该像素永远处于亮态，这就是我们常说的亮点。 TN＋Film模式的广视角技术没有对此进行任何改进，所以仍然存在亮点较多的问题。 ;（五）OCB（Optically Compensated Bend/Optical Compensated Birefringence，光学补偿弯曲排列/光学补偿双折射）;OCB模式工作于液晶分子的双折射现象 在无电场条件下，透过光也会产生光程差，所以要加一层双轴光学补偿膜，以抵消这个光程差。 盒内液晶分子不扭曲，只是在一个平面内弯曲排列。 液晶分子排列是上下对称的，这样由下面液晶分子双折射性导致的相位偏差正好可以利用上部分的液晶分子自行抵消，相对其他配向分割模式，OCB的制造工艺更简单一些。 ;优点：OCB模式在常态下（无电场）也显示暗态，属于“常黑”模式液??，因此OCB出现“亮点”的几率也不高。OCB还原的黑色特别纯 。 OCB最大的特点就是响应速度快，即使是响应时间也不会超过10ms，目前已经有1ms到5ms的产品。 ;（六）平面控制模式（IPS－mode);结构：细条型的正负电极间隔排列在基板上把电压加到电极上，原来平行于电极的液晶分子会旋转到与电极垂直的方向，但液晶分子长轴仍然平行于基板，控制该电压的大小就把液晶分子旋转到需要的角度，配合偏振片就可以调制极化光线的透过率，以显示不同的色阶。 ;;IPS同扭曲向列液晶的区别;IPS起初是由Hitachi所发展，但现在NEC及Nokia也采用这项技术。;垂直取向模式;MVA广视角技术原理分析 ;如图是一种双畴VA模式液晶。 未加电时，液晶分子长轴垂直于屏幕，只有在靠近凸起物电极的液晶分子略有倾斜，光线此时无法穿过上下两片偏光板。 当加电后，凸起物附近的液晶分子迅速带动其他液晶转动到垂直于凸起物表面状态，即分子长轴倾斜于屏幕，透射率上升从而实现调制光线。;如图，在B处看到的是中灰阶，在A和C处能同时看到的高灰阶和低灰阶，混色后正好是中灰阶 ;优点：如果采用双轴性光学薄膜补偿，将会得到比较理想的视角。 坏点为“暗点”，要更难发现，也就是说对画面影响更小，用户也较容 易接受。 正面对比度可以做得非常好，即使要达到1000:1也并不难 ;采用MVA技术的明基BenQ FP991，对比度达到700:1 ;PVA（Patterned Vertical Alignment，垂直取向构型）广视角技术 ;;各种广视角模式比较 ;;TFT-Array Process;?这是5次光刻形成TFT图形，采用底栅背沟道刻蚀的工艺。以玻璃为基板。第一次光刻形成栅线原料为Cr。第二次光刻形成“硅岛”——SiNx，a-Si，n+-a-Si层，第三次光刻形成ITO导电膜，第四次光刻形成源极漏极，材料为Cr，并进行n+切断，基本形成TFT。最后第五次光刻形成SiNx保护膜。;;中国TFT-LCD液晶面板线分布(2010) ;中国TFT-LCD液晶面板线分布（2010）;作业： 1 简要说明TFT液晶显示器的驱动原理，TFT-LCD有哪些特点？ 2 目前TFT-LCD存在哪几种视角宽化技术？其中IPS技术的基本原理是什么？