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无压浸渗制备Si_3N_4_Al复合材料的反应浸渗机理

第 36 卷 增刊 1 稀有金属材料与工程 Vol.36, Suppl.1 2007 年 8 月 RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERING August 2007 无压浸渗制备 Si N /Al 复合材料的反应浸渗机理 3 4 王扬卫,于晓东,王富耻,马 壮,康晓鹏 (北京理工大学材料科学与工程学院,北京 100081) 摘 要:采用“中断浸渗”方法获得保留了“浸渗前沿”的样品,应用扫描电子显微镜和 X 射线能谱分析了浸渗界面 上的形貌和成分变化,深入讨论了浸渗界面推进过程中的物理、化学反应过程。采用扫描电镜等微观分析手段观察了 复合材料显微形貌,探讨了界面反应机理。研究结果表明:浸渗界面推进过程中熔体中的 Mg 富集在浸渗前沿的预制体 上,并与预制体发生反应;Al/Si N 界面反应产物 AlN 相形成“楔形”向 Si N 单元心部推进,细观上呈现含毛细通道 3 4 3 4 的胞状辐射形貌,大量毛细通道确保了 Al 和 Si N 之间的置换反应持续进行;Al 与 Si N 的置换反应产物 Si 绝大部分 3 4 3 4 溶解在铝镁合金熔体中。 关键词:无压浸渗;复合材料;Si3N4 ;界面反应;浸渗机理 中图法分类号:TB 333 文献标识码: A 文章编号:1002-185X(2007)S1-0777-04 1 引 言 3 试验结果 采用 Al-Mg 合金熔体无压浸渗 Si N 多孔预制体 3.1 浸渗界面特征及反应浸渗过程 3 4 制备得到一种新型、高性能 Si N /Al 陶瓷金属复合材 图 1 是获得的“浸渗前沿”形貌和成分线扫描结 3 4 料[1] 。在浸渗过程中 Si N /Al 界面发生一定程度的置 果。由于已浸渗区和未浸渗区导电性不同,在二次电 3 4 换反应,并生成坚硬的陶瓷相 AlN ;该置换反应促进 子像上可以清楚的分辨出浸渗界面,其中黑色区域为 了 Al 熔体和 Si3N4 预制体的润湿,并使复合材料中的 已浸渗区,灰白色区域为未浸渗区。从对应的能谱分 陶瓷相体积增大[2,3] 。研究Al/Si N 的界面反应和润湿 析结果可以看出:从已浸渗区复合材料到未浸渗的预 3 4 浸渗机理对改进浸渗复合工艺和优化复合材料性能具 制体,N 元素含量没有显著变化;而 Si 在已浸渗区的 有重要意义。 含量显著低于未浸渗区,说明 Si 元素在浸渗后发生了 明显的迁移。Al ,Mg 已经提前扩散到浸渗前沿预制 2 试验方法 体中,其超前扩散距离约为 2 mm ;其中 Mg 元素在浸 试验选用平均粒径为 1.5 µm α-Si N 陶瓷粉

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