等离子体刻蚀工艺控制模型分析 analysis of plasma etching controlling model.pdfVIP

下载本文档

2
0
约1.36万字
约 4页
2017-08-13 发布于上海
举报
版权申诉

等离子体刻蚀工艺控制模型分析 analysis of plasma etching controlling model.pdf

1、有哪些信誉好的足球投注网站（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。。
2、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击这里二次下载。
3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

等离子体刻蚀工艺控制模型分析 analysis of plasma etching controlling model

制造技术 Manufacnlri“g磊chnology 等离子体刻蚀工艺控制模型分析王巍1’2，叶甜春2，吴志刚扎，田益祥，b (1．重庆邮电学院，光电工程系，重庆400065；2．中科院微电子研究所，北京100029； 3．电子科技大学，a．电子工程学院；b．管理学院，成都610054) 摘要：讨论了主因素分析法以及神经网络法在等离子体刻蚀工艺中的应用。结果表明主元素分析法可以实现对数据的压缩，而神经网络算法则显示出比传统的统计过程控制算法更好的准确性。关键词：等离子体刻蚀；主因素分析法；神经网络法中图分类号：TN305．97文献标识码：A ofPlasma Model Analysis EtchingControUing WANGWei 1，-，YETian—chun2，WUZhi—gan93，TIANYi—xian94 (1．College9foptoe!ectronicsEngineeriHg．CQUPT，Chongqtng400065，Chinn：2．Instttuteof IHstttute；b．Schoot Microeiectronics．CAS．Beijing100029，ChiHa；3．UESTC．n．ElectronicEngtneering t玎 l0054，C^f行口) ．^彳口甩口gPme竹f，C^PHgd“6 Abstract：Theof neuralnetworkmethodin applicationprincipalcomponentanalysis(PCA)and of arediscussed．TheresultsshowthatPCA could controllingplasmaetching algorithmcompress the data theneuralnetwork manifestsmore accu- experimenteffectiVely，and algo“thm predication thantraditionalon—linestatistical racy processcontrol(SPC)． network Keywords：plasmaetching；principalcomponentanalysis(PCA)；neural 型，由于需要对连续性方程、动量方程及能量方程 1前言进行求解，以期得到白洽的解，因而计算过程复对于各种半导体工艺过程而言，进行准确而有杂，计算量很大而无法应用于实时的生产现场控效的模型分析是实际应用中所必需的条件【¨。建模制。而各种其他模型，如主因素分析法及神经网络分析的目的就是希望能对工艺过程有所了解，或者模型等逐渐成为研究的热点。本文主要讨论主因素基于模型的行为对实际发生的工艺过程