等离子喷涂制备压电石英膜材料及性能分析 preparation of piezoelectric quartz film material by plasma spraying and its performance analysis.pdfVIP

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2017-08-13 发布于上海
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等离子喷涂制备压电石英膜材料及性能分析 preparation of piezoelectric quartz film material by plasma spraying and its performance analysis.pdf

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等离子喷涂制备压电石英膜材料及性能分析 preparation of piezoelectric quartz film material by plasma spraying and its performance analysis

第35卷第4期兵器材料科学与工程 V01．35No．4 2012盘 ANDENG矾EERING 7B 0ImNANCEMAl哐R工AL她NCE July，2012 网络出版时间：2012-07-1122：44：44 网络出版地址：hup：／／www．cnki．nm／kcms／mil／33．1331．TJ2244．002．hlml 等离子喷涂制备压电石英膜材料及性能分析张剑。陈文革，王艳丽，赵姗姗，卓磊 (西安理工大学材料科学与工程学院．陕西西安710048) 擅要采用大气等离子喷涂技术制备SiO：膜压电材料，利用XRD和SEM研究其组织结构，同时对其介电常数￡、介电损耗ta∞、压电常数如、机械品质因数p等性能进行测试。结果表明：采用大气等离子喷涂工艺可制备出相结构主要由a一石英和p方石英共同组成组织较为致密、缺陷较多的SiO：压电膜，压电常数d。和介电常数s．随膜厚度的增加而增加，介电损耗ta∞随膜厚度的增加而减小；介电常数轧介电损耗t柚、机械品质因数Q随频率的增加而减小，当SiO：膜厚为5 mm，压电常数击，最大值为2．3 pC／m。关键词等离子喷涂；S她膜；压电材料；压电性能中圈分类号TQl7 文献标识码A 文章编号1004-244X(2012)04--0053--04 0f m砒eliaI andit8 Preparationpi瑚删山圯吨qI斌z矗lm byplasma印朔yingpBr|‰ⅢIa玎伪毗Ia：【yBi8 (SchoolMMaterialsScience fdms micmstructure ofthickfdms Absu嘲Sinwere and successfullypreparedbyplasmasprayingtechnique．The properties results Ⅷstudied electron diffraction(xRD)．Theshowthatthe structureof by microscope(SEM)andX．ray scanning phase thickfilmam anda--cristobalite．Butthe Si02 thickfilmis Si02piezoelectricmainlycomposedofa·quartz preparedpiezoelectric characterized defect andlow constantd3，anddielectricconstant晶 byIa噌”pores，thela增er density density．Piezoelectric increaseswithSi02filmthickness．dielectriclosstan8decreaseswithSi02lilmthickness．Dielectricconstant晶anddielectric 5mill，tlle ma