实验八：使用L-Edit画PMOS布局图.pdfVIP

实验八：使用 L-Edit 画 PMOS 布局图 1 实验步骤： 1．新建文件夹：在电脑E 盘新建文件夹，文件夹名为ex8 。 2．打开 L-Edit 软件：在桌面上双击L-Edit v13.0 快捷键，打开L-Edit v13.0 软件，如图 所示。 3．另存新文件：选择File——Save As 命令，打开“另存为”对话框，在“保存在”下拉 列表框中选择存储目录（存储在刚才新建的文件夹 ex8 中），在“文件名”文本框中输入新文件名称，例 如：ex8 。 4．取代设定：选择File——Replace Setup 命令，单击 出现的对话框的From file 下拉列表右侧的Browser 按钮，选择d:\My Documents\Tanner EDA\Tanner Tools v13.0\L-Edit and LVS\SPR\Lights\Layout\lights.tdb 文件， 如图所示，再单击OK 按钮。接着出现一个警告对话框， 按确定按钮，就可将lights.tdb 文件的设定选择性应用在 目前编辑的文件，包括格点设定、图层设定等。 5．重新命名：L-Edit 编辑方式是以组件(Cell)为单位 而不是以文件(File) 为单位的，每一个文件可有多个 2 Cell，而每一个 Cell 可表示一种电路布局图或说明，每次打开新文件时自动打开一个 Cell 并将之命名为 Cell0，如图所示，其中，编辑画面中的十字为坐标原点。 将Cell0 的名称重新命名，可选择Cell——Rename 命令，打开 Rename Cell Cell0 对话框，将cell 名 称改成pmos ，如图所示。 6．选取图层： 在画面左边有一个Layer 面板，其中有一个下拉列表，可选取要绘制的图层，例如：Poly， 则Layer 面板会选取代表Poly 图层的红色。在L-Edit 中的Poly 图层代表制作集成电路中多晶硅(Poly Silicon) 所需要的光罩图样。本范例绘制 PMOS 布局图会用到的图层包括(N Well 图层) 、(Active 图层) 、(N Select 图层) 、(P Select 图层) 、(Poly 图层) 、.(Metal1 图层) 、(Metal 2 图层) 、(Active Contact 图层) ， 其各自的绘制结果分别如下。 7．绘制 N Well 图层：L-Edit 编辑环境是预设在P 型基板上，故读者不需要定义出 P 型基板范围，而 在 P 型基板上制作PMOS 的第一步，流程上要先做出N Well 区，即需要设计光罩以限定