ZnO_Cu多层膜的制备及电磁屏蔽性能研究.pdfVIP

盛澄成等： ／ 多层膜的制备及电磁屏蔽性能研究 ＺｎＯ Ｃｕ ０８０８ ９ 文章编号： ９ （ ） ０ ０ １００１ ７３１２０１６０８ ８０８９ ５ － － － Ｚ ／ 多层膜的制备及电磁屏蔽性能研究＊ ｎＯ Ｃｕ ， ， ， 盛澄成 徐 阳 乔 辉 魏取福 　 　 （ ， ） 江南大学生态纺织教育部重点实验室 江苏无锡 ２１４１２２ 摘 要： 采 单 ／ 多 ， 用磁控溅射法在涤纶水刺非织造布表面沉积纳米结构 ｕ 层膜和 ｎＯ Ｃｕ 层膜 利用原子力显 Ｃ Ｚ 　 　 （ ） ， 。 微镜 ＦＭ 对薄膜表面形貌进行分析 并利用四探针测试仪和矢量网络分析仪对样品的电学性能进行了测试 Ａ ， 、 ； 结果表明 在 薄膜表面生长的 膜比在 织物表面生长的 膜的均匀性 电学性能要好 在 镀膜 ＺｎＯ Ｃｕ ＰＥＴ Ｃｕ Ｃｕ ， 镀 ， ／ 的 ， 镀 时间相同的情况下 随着 ｎＯ 膜时间的增加 多层膜 ｎＯ Ｃｕ 电学性能先提高后降低 当 ｎＯ 膜时间为 Ｚ Ｚ Ｚ ， ； ， ， ／ 时 多层膜的电学性能达到最好 在 镀膜时间相同的情况下 随着 镀膜时间的增加 多层膜 ０ｍｉｎ ｎＯ ｕ ｎＯ ２ Ｚ Ｃ Ｚ 的电 、 ， 。 Ｃｕ 学性能和织物表面颗粒均匀性经历了先提高 最后趋于稳定的过程 屏蔽效能最大平均值达到 ６ｄＢ ５ ／ ） 关 ： ； ； ； （ ； 键词 磁控溅射 ｎＯ Ｃｕ多层膜 ｕ单层膜 原子力显微镜 ＦＭ 电学性能 Ｚ Ｃ Ａ