纳米二氧化硅粒子的改性研究-任小明.pdfVIP

38 6 ( ) Vol． 38 No． 6 第 卷第 期 湖北大学学报 自然科学版 2016 2016 11 Journal of Hubei University (Natural Science) Nov． ， 年 月 文章编号:1000-2375 (2016)06-0522-05 纳米二氧化硅粒子的改性研究 1 ，2 2 1 ，2 1 ，2 1 ，2 1 ，2 任 ， ， ， ， ， 小明 赵辉 朱妍娇 李爽 施德安 蒋涛 (1． ( 北大学)， 北武汉430062 ; 湖北省有机化工协同创新中心 湖 湖 2． ， 430062) 湖北大学材料科学与工程学院 湖北武汉 : 、 Zeta - 摘要 利用傅立叶红外光谱仪 接触角测试仪和 电位测定仪等仪器分别测试未改性和γ 甲基丙烯酰氧基丙基 (KH570) 、 ， 三甲氧基硅烷 改性的纳米二氧化硅粒子表面的分子结构 接触角和电荷 分析两者之间的宏观性能和微观分子 ， ; TG (SiO ) KH570 ， pH 结构区别 以此判断改性效果 采用 定量分析纳米二氧化硅 2 表面偶联剂 的接枝率 研究分散液的 、 、 ， : KH570 20% ， 值 偶联剂用量 水用量等工艺条件对接枝率的影响 结果表明 当偶联剂 用量在 二氧化硅质量范围内 随着 ， ， ． 偶联剂用量增加接枝率不断增大 当超过这个用量后 则由于空间位阻效应导致接枝率变化不明显 : ; KH570 ; ; 关键词 纳米二氧化硅 硅烷偶联剂 接枝率 工艺配方 中图分类号:TB332 文献标志码:A DOI :10．3969 /j．issn．1000-2375．2016．06．009 Modification of nano silicon dioxide particles ＲEN Xiaoming1，2 ，ZHAO Hui2 ，ZHU Yanjiao1，2 ，LI Shuang1，2 ，SHI Dean1，2 ，JIANG Tao1，2