配合物的制备方法资料.pptVIP

[Ni(py)4]Br2 [NiBr2(py)2] [NiBr2(py)] [NiBr2] [Cr(en)3]Cl3 cis-[CrCl2(en)2]Cl + en [BF3(NH3)] BF2(NH2) + HF BF2(NH2) BF(NH) + HF BF(NH) (BN)n K[BF4] BF3 + KF BrF2[RuF6] BrF3 + RuF5 [Cr(en)3]Cl3 cis-[Cr(en)2Cl2]Cl + en 140℃ 200℃ 300℃ 210℃ △ △ △ △ △ △ 2. 由低价态化合物氧化制备高价态配合物 由于高价态金属离子形成配合物的稳定性比低价态的高，因此，很多金属的高氧化态配合物都可由相应的低价化合物经氧化配位制得，例如： 2CoCl2+2NH4Cl+8NH3+H2O2=2[Co(NH3)5Cl]Cl2+2H2O 制备时，可将CoCl2·6H2O溶解在NH3－NH4Cl体系里，在搅拌下缓慢滴加H2O2溶液（30％），待溶液中无气泡生成时，加入浓HCl即可得到紫红色结晶状产物。 常用的氧化剂有O3，O2空气，H2O2，X2，KMnO4，PbO2等，其中前三种在实际中的应用较多，因为它们不引入杂质。PbO2也很常用，因为它本身是固体，还原后生成的Pb2+在有Cl-存在时，可成为PbCl2沉淀而过滤除去。其它如KMnO4, K2Cr2O7, Ce4+化合物等，因为能引入其它杂质离子，增加了分离的手续而应用较少。 3.还原高价态化合物制备中间价态或低价态配合物 高价态金属化合物经还原，配位过程可得低价态配合物，常用的还原剂有：溶于液氨的K，Na；溶于四氢呋喃的Li和Mg, Na-Hg, Zn-Hg；以及N2H4或NH2OH在反应中放出N2不污染产物），H3PO2，N2S2O3, KBH4等。例如： 类似反应还可制得其它零价金属配合物，如K4[Ni(CN)4]和K6[Cr(CN)6]等。这些配合物都是强还原剂，在空气中迅速被氧化，能还原分解出氢。 * 对空气敏感配合物的制备 有机金属化合物多数对空气敏感，需要在无氧的条件下合成。合成操作通常在氮气或氩气气氛中完成。回流、蒸发、结晶、过滤、洗涤也需要在干燥和无氧条件下完成。这些操作通常在充以惰性气体的手套箱中进行。 许多研究者使用所谓的Schlenk真空线和 Schlenk烧瓶并配合使用注射器、过滤瓶等特殊的玻璃仪器。 例如制备(CH3)3NGaH3,[RhCl(C8H14)2]n * 稀土配合物的制备 合成镧系金属离子配合物，有许多地方不同于过渡元素配合物，这时因为 (1) 4f价电子基本上不直接参与成键，镧系离子配合物中的配位键基本上是离子键；(2) 镧系离子配位数大且多变化，镧系配合物的组成和结构随合成方法而变；(3) 镧系离子强烈地与带负电荷的配位基团结合，如可与多齿配体离子NO3-, SO42-等形成稳定配合物，因而妨碍了与弱配位体的配位作用；(4) 镧系离子Ln3+为硬酸离子，易形成氢氧化物（易水解），故需严格控制溶液的pH值， 从水溶液中合成的配合物，大多含有配位水分子。若加热脱水却又易造成配合物部分分解，生成羟基衍生物，故稀土配合物通常在非水溶剂中合成。 稀土配合物的制备 起始物质(the starting materials) 稀土原料通常为纯氧化物 99.99%, 一般为倍半化合物 Ln2O3：少数为三、四价复合氧化物或四价氧化物：CeO2, Pr6O11(4PrO2·Pr2O3), Tb4O7(Tb2O3·2TbO2)。对于非碱性的较强配位体，可使用稀土水合盐作起始物质。 往稀土氧化物中加入稍过量的无机酸（如HCl, HNO3, HClO4），在80oC水浴上加热使其完全溶解（或回流加热），在蒸汽浴上加热蒸发至干，将剩余固体再溶于少量水中，在蒸气浴上再次加热，以除去水和多余的酸，直至溶液pH 达到5~6，令却后析出水合盐。也可将过量的稀土氧化物加入到浓酸溶液中，在80oC水浴上加热，直至pH达5~6,过滤除去过剩的氧化物，滤液在旋转蒸发仪中蒸发，也可制得水合盐。 镧系盐非水（无水）溶液及无水镧系盐的制备： 例如无水镧系盐乙腈溶液的制备：在镧系盐乙腈溶液中加入过量的原甲酸三乙酯(C2H5O)3CH， 回流5小时，除去结晶水： H2O +(C2H5O)3CH 2C2H5OH +HCOOC2H5 无水卤化物的制备： 镧系金属与气态卤化氢或