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外延生长亚单层Si薄膜的动力学蒙特卡罗模拟.pdf
· · 128 材料导报 外延生长亚单层Si薄膜的动力学蒙特卡罗模拟+ 王全彪1’2，杨瑞东1’2，杨宇1 (1云南大学材料科学与工程系，昆明650091；2红河学院物理系，蒙自661100) 摘要 建立了沿si(100)方向外延生长亚单层Si薄膜的动力学蒙特卡罗模拟模型，对二维si薄膜的生长过程 及二维si岛的形貌演变进行了研究。结果表明，在一定的入射率下存在一最佳成岛温度，该温度随入射率的增大而 升高。以最佳成岛温度生长时，岛密度随覆盖度的增加呈现增加饱和减小的变化规律。在低温和高入射率下，岛 密度随覆盖度单调增加，薄膜呈离散生长。而温度很高和入射率很低时，岛密度始终以很小的数值在小范围内振荡， 薄膜呈紧致生长。 关键词 si薄膜生长动力学蒙特卡罗岛密度 KineticMonteCarlo of Growthon Homoepitaxial InvestigationSubmonolayer WANG Yul Quanbia01¨。YANGRuidon91“，YANG (1 ofMaterialScienceand 650091； Department Engineering，YunnanUniversity，Kunming 2 of 661100) DepartmentPhysics，HongheUniversity，Mengzi AbstractTheinitial of arestudiedKineticMonte stages using Si(100)homoepitaxy isan ata rateandthis tion．Theresultsrevealthatthere deposition temperature optimumislandingtemperaturegiven issaturateanddecreasesat increaseswiththeincreaseof rate．Theislands increasesatfirst，then deposition density withtheincreaseof the island last islandingtemperature．Withcoverageincreasing，the coverage(0～0．3)atoptimum itis lowandfluctu— increases
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