采用不同功率溅射制备氧化钛薄膜的研究.pdfVIP

（ ） 第 卷 第 期 天 津 师 范 大 学 学 报 自然科学版 ３２ １ Ｖｏｌ．３２Ｎｏ．１ 　 ， ： （ ） · · 第 卷年 第月 期 王 丽格 等 采 用 不 同功率 溅 射制 备 氧化 钛 薄膜 的研究 ３１ ２０１２３２ １ １ ＪｏｕｒｎａｌｏｆＴｉａｎｉｎＮｏｒｍａｌＵｎｉｖｅｒｓｉｔ ＮａｔｕｒａｌＳｃｉｅｎｃｅＥｄｉｔｉｏｎ Ｊａｎ．２０１２ 　　　 　 　 　 ｊ 　 　 ｙ 　 　 文章编号 ： （ ） １６７１１１１４２０１２０１００３１０４ － － － 采用不 同功率溅射制备 氧化钛薄膜 的研究 ， ， ， ， ， 王丽格 黄美东 李 洪玉 张琳琳 佟莉娜 杜 姗 　 （ ， ） 天津师范大学 物 理 与 电子信 息 学院 天津 ３００３８７ ： ， （ ） 摘 要 常温 下 利用射频 ＲＦ 反 应磁 控溅射 方 法在 Ｋ９双 面抛 光玻璃 基 底 上 沉积 氧 化 钛 薄膜．采 用光栅 光谱仪 　 ， 、 对 薄膜样品 的透射谱进行测试 通过 椭 圆 偏 振 光 谱 仪 测 试 并 拟 合 得 到 薄 膜 的厚 度 折 射 率 和 消光 系数 等 光 学参 ， ： 数 借助 掠入 射角 Ｘ 射 线衍射 对 薄膜 的结 晶状态进行 了测试．实验结 果表明 不 同溅射 功 率 下 沉积 的样品 呈非晶 － ， ， ， ， 态 在 ４０～ １００ Ｗ范 围内 溅射 功 率越大 薄膜 的沉积 速率越大 但溅射 功 率 对折射率 和 消光 系数 影响 不 大． ： ； ； ； 关键词 溅射 功 率 磁 控溅射 氧化钛 薄膜 光 学性 能 ＋ 中图分类号 ： 文献标志码 ： ＴＧ１１３．２５ １ Ａ 　　　　　　　 Ｓｔｕｄ ｏｎｔｉｔａｎｉｕｍｏｘｉｄｅｆｉｌｍｓｄｅｏｓｉｔｅｄａｔｄｉｆｆｅｒｅｎｔｓｕｔｔｅｒｉｎ ｏｗｅｒｓ ｙ 　 　 　 　 ｐ 　 　 　ｐ ｇｐ