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摘要
摘要
化学气相沉积（ChemicalVaporDeposition，简称CVD）是一种通过气相前
驱体在加热基体表面发生化学反应，从而形成固态薄膜涂层的先进表面处理技
术。影响CVD涂层质量的主要因素有沉积工艺参数和系统结构设计等。采用热
力学与计算流体动力学（ComputationalFluidDynamics，CFD）方法对TiAlSiN
涂层的CVD沉积工艺进行优化，通过分析沉积反应室内的温度、
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