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真空物理气相沉积技术应用分析

目录

一、文档概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．3

1.1研究背景与意义．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4

1.2国内外研究现状．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．6

1.3研究内容与方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．11

二、真空物理气相沉积技术原理．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．13

2.1技术基本概念．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．16

2.2主要物理过程．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．17

2.2.1物质气化．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．18

2.2.2蒸气传输．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．23

2.2.3沉积生长．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．24

2.3常见沉积方式分类．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．27

三、真空物理气相沉积技术关键设备．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．30

3.1真空系统构成．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．31

3.2沉积源类型．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．32

3.3控制与监测系统．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．36

四、真空物理气相沉积薄膜特性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．43

4.1薄膜结构表征．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．45

4.2薄膜成分分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．48

4.3薄膜物理性能研究．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．49

4.3.1薄膜厚度控制．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．51

4.3.2薄膜均匀性分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．54

4.3.3薄膜附着力测试．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．56

4.4薄膜化学性能研究．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．58

五、真空物理气相沉积技术应用领域．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．62

5.1电子工业应用．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．64

5.1.1半导体器件制造．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．68

5.1.2显示器技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．70

5.2光学工业应用．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．73

5.2.1光学镜头镀膜．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．75

5.2.2增透膜制备．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．77

5.3航空航天领域应用．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．78

5.3.1航空器表面涂层．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．79

5.3.2航天器热控制膜．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．82

5.4医疗器械领域应用．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．83

5.5其他应用领域．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．83

六、真空物理气相沉积技术挑战与展望．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．88

6.1技术发展面临的挑战．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．89

6.2未来发