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深亚微米芯片设计中电源完整性的关键问题与优化策略探究.docx

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    深亚微米芯片设计中电源完整性的关键问题与优化策略探究

    一、绪论

    1.1研究背景与意义

    随着信息技术的飞速发展，芯片作为现代电子系统的核心部件，其性能和集成度不断提升。在芯片设计技术的持续演进历程中，深亚微米技术的出现无疑是一个具有里程碑意义的重大变革。当半导体工艺的最小特征尺寸小于0.5微米时，便迈入了深亚微米设计技术（DSM：DeepSubMicrometer）阶段。如今，国外商业化半导体芯片制造技术的主流已达到0.25微米、0.18微米的线宽，利用该技术可制作256Mb的DRAM和600MHZ的微处理器芯片，每片上集成的晶体管数在108-109量级，且

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