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深度解读：2025年3nm以下GAAFET工艺研发技术壁垒与突破路径.docx

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    深度解读：2025年3nm以下GAAFET工艺研发技术壁垒与突破路径范文参考

    一、深度解读：2025年3nm以下GAAFET工艺研发技术壁垒与突破路径

    1.3nm以下GAAFET工艺的技术壁垒

    1.1晶体管结构的复杂性

    1.2工艺控制难度大

    1.3能耗问题

    2.突破3nm以下GAAFET工艺的技术壁垒

    2.1提升晶体管设计能力

    2.2突破纳米级工艺制造技术

    2.3降低能耗

    2.4加强国际合作

    3.我国在3nm以下GAAFET工艺研发方面的成果与挑战

    3.1取得的成果

    3.2面临的挑战

    4.突破3nm以下GAAFET工艺的技术壁垒的措施

    4.1加大研发投入

    4.2加

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