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离子注入技术(Implant);2基本原理和基本结构1综述;最早应用于原子物理和核物理研究;E10KeV,刻蚀;掩模方式需要大面积平行离子束源;基本结构:离子注入系统(传统);聚焦系统:用来将加速后的离子聚;离子注入系统示意图;离子注入系统实物图;作用:产生所需种类的离子并将其;LMIS的类型、结构和发射机;注入离子浓度分布离子注入过程:;注入离子分布(高斯型)RP:投;注入离子会引起晶格损伤(一个高;一个离子引起的晶格损伤轻离子重;退火前后的比较退火后退火前;离子注入扩散1低温,光刻胶掩膜;1离子注入将在靶中产生大量晶格;离子注入的应用05光波导:光纤;离子注入机设备与发展中束流μA;GSD/200E2离子注入机技;GSD/200E2离子注入机技;离子注入机设备与发展;目前最大的几家IMP设备厂商是;未来电子技术发展水平的瓶颈;未;Thankyou!
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