基于磨损理论的碳化硅陶瓷振动辅助抛光去除机理研究.docxVIP

基于磨损理论的碳化硅陶瓷振动辅助抛光去除机理研究

一、引言

随着科技的发展，碳化硅陶瓷因其高硬度、高强度、高耐磨性等优点，在航空、航天、机械、电子等领域得到了广泛应用。然而，碳化硅陶瓷的加工难度大，表面处理技术要求高。振动辅助抛光技术作为一种新兴的表面处理技术，具有高效、高精度的特点，被广泛应用于碳化硅陶瓷的加工中。本文基于磨损理论，对碳化硅陶瓷振动辅助抛光去除机理进行研究，旨在为碳化硅陶瓷的加工提供理论支持。

二、碳化硅陶瓷的基本特性及抛光需求

碳化硅陶瓷具有高硬度、高强度、高耐磨性等特点，但其加工难度大，表面处理技术要求高。振动辅助抛光技术可以有效地提高碳化硅陶瓷的表面质量，满足高精度、高