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题型14化学反应原理综合应用
八省”联考典题
1.(2025年1月•“八省联考”河南卷)硅是电子工业中应用最为广泛的半导材料,少量磷的掺入可提高
硅的导电性能。Zn高温还原SiCM沸点57.6℃)是生产多晶硅的一种方法。回答下列问题:
⑴基态Zn原子的价电子排布式为,SiCL晶的类型为=
(2)化合物H3BPF3的结构如图1所示,H3BPF3中F-P-F键角略大于PF3分子中的F-P-F键角,原因
是o
A/
H-B-P—F
HF
图1
(3)Si、P和Zn三种元素组成化合物的晶胞如图2所示(晶胞参数a=bwc,a=。=y=90。),若将M点Si
原子作为晶胞顶点,则N点Si原子在晶胞中的位置为(填“面心”“棱中点”或“心”)。
OZn
•Si
OP
图2
(4)在Zn还原SiCL的过程中会生成副产物SiCl,抑制SiCb生成可以增加Si产量并降低生产能耗。该
2
过程存在如下主要化学反应:
反应I:SiC14(g)+2Zn(g)2ZnCl(g)+Si(s)AHi=-134kJ-moL
2
反应II:SiC14(g)+Zn(g)ZnCl(g)+SiCl(g)AH=+98kJmol1
222
反应III:SiCU(g)+Si(s)2SiCl(g)AH
23
_1
@AH=kJmolo
3
②在总压分别为Pl、必和.下,反应达平衡时:SiCb物质的量与初始SiCL物质的量的比值X随温度变
化如图3所示。图中压强由大到小顺序为,判断的依据是。在一定温度、180kPa条件下,
系中初始:SiCL(g)和Zn(g)分别为Imol和4mol,假设此条件下生成的SiCb忽略不计,恒压反应4min时,
Si。分压变为20kPa,0〜4min内用SiCL分压表示的平均反应速率为kPa-min1,此时可生成硅.
g°
2.(2025年1月•“八省联考”内蒙古卷)在传统克劳斯工艺制备S2
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