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本发明公开了利用化学气相沉积法合成大尺寸金刚石晶体的方法，以单晶硅为基底，然后依次沉积SiO2膜及TiCN膜，在TiCN膜上蚀刻出窗口，再蚀刻去除窗口下方的SiO2膜及相邻窗口间的部分SiO2膜，经清洗、干燥、中间退火，得到支撑衬底；在支撑衬底上采用碳氢氟体系沉积形成金刚石过渡层，再采用碳氢体系沉积生长出金刚石外延层，然后超声处理、分离、去应力退火。本发明通过材料选择、结构优化及工艺控制，减小了材料膨胀系数差异所带来的内应力，且有助于金刚石的分离，减少了金刚石的组织缺陷，提高了金刚石的力学性能，
(19)国家知识产权局 (12)发明专利申请 (10)申请公布号 CN 116334752 A (43)申请公布日 2023.06.27 (21)申请号 202310355224.3 C23C 16/56 (2006.01)
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