硅片清洗干燥装置和硅片处理设备.pdfVIP

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2023-02-14 发布于四川
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硅片清洗干燥装置和硅片处理设备.pdf

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本实用新型涉及一种硅片清洗干燥装置和一种硅片处理设备，其中硅片清洗干燥装置包括第一清洗干燥结构，所述第一清洗干燥结构包括清洗液提供部和压缩气体提供部，以及与所述清洗液提供部、所述压缩气体提供部连接的喷淋部，所述喷淋部包括第一旋转杆，和沿着所述第一旋转杆的延伸方向设置的多个第一喷淋头和多个第二喷淋头，在对硅片进行清洗或干燥时，所述第一旋转杆能够在与硅片平行的平面内旋转，多个所述第一喷淋头通过第一管道与所述清洗液提供部连接，以对硅片进行清洗，多个所述第二喷淋头通过第二管道与所述压缩气体提供部连接，以

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 CN 212517137 U (45)授权公告日 2021.02.09 (21)申请号 202120092309.3 (22)申请日 2021.01.14 (73)专利权人西安奕斯伟硅片技术有限公司