中文版creo30基础教程编辑特征.pptxVIP

第5章;在建模过程中可以对特征进行复制、镜像和阵列等编辑特征操作，以便快速创建大量相同或类似的特征，还可以通过编辑修改、重定义、插入和重新排序等操作，改变实体的整体状况。本章主要介绍特征的复制、镜像和阵列及特征修改、重定义和删除等方法，以及图层的操作等内容。 通过本章的学习，读者需要掌握的内容如下： 复制、阵列和镜像特征的操作方法 特征和特征组的操作方法 特征的各种编辑方法 层的操作方法;复制特征是将已有的特征重复性复制的一个过程。可以把一个或多个位置上的特征复制到另一个位置，创建一个或多个与原特征相同或相似的新特征。 粘贴性复制 镜像特征 阵列特征 ;粘贴性复制是将现有特征粘贴到同一模型的不同位置或两个不同的模型上。其中，复制的特征可以与源特征完全相同，也可以具有不同的草绘平面和参照面，还可以通过编辑操作重新指定尺寸。粘贴性复制包括复制和粘贴两个过程。 1．复制特征 在进行粘贴性复制时，可以把复制过程看作是将特征复制到剪贴板上。例如选取一个孔特征，单击“操作”选项板中的“复制”按钮 ，即可将源特征复制到剪贴板，如图5-1所示。 2．粘贴特征 复制特征以后，选取的特征已复制在假想的剪贴板上，同时“操作”选项板中“粘贴”和“选择性粘贴”两个工具被激活。;5.1.1 粘贴性复制孔特征?;镜像特征是以一个平面为对称中心对称复制相同的特征。其中，可以选取基准平面、实体上的平面和任意形状的平整面作为对称平面，可以镜像的特征包括实体、曲面、曲线以及基准特征等。;阵列特征实际上是一种特殊的复制操作。利用该工具可以按照一定规律，均匀分布形式创建多个特征副本。;1. 尺寸阵列 尺寸阵列是通过设置特征的定位尺寸来决定阵列的方向和阵列参数。其中，阵列对象必须具有清晰的定位尺寸。该阵列类型包括矩形阵列和圆周阵列两种方式。;5.1.3 阵列特征;2. 方向阵列 方向阵列是在一个或两个选取的方向参照上添加阵列成员来创建阵列特征。在该阵列方式中拖动每个方向的放置手柄，可以调整阵列成员之间的距离，或者将当前阵列的方向反向。;3. 轴阵?? 轴阵列是围绕一个选定的旋转轴（基准轴等）创建阵列特征。;4. 填充阵列 填充阵列是选定或绘制一个封闭的或非封闭的二维轮廓进行实体特征填充。该方式主要以栅格定位的特征来填充所确定的区域。一般用于工程领域的修饰性操作，如防滑纹理和电脑外壳上的散热孔等。;5. 表阵列 表阵列是以表格的方式设置阵列特征的空间位置和尺寸来创建阵列特征。相对于尺寸阵列来说，表阵列更为灵活，而且表阵列中的实体大小可以相同，也可以不同。;6. 参考阵列 参考阵列是指借助已有的阵列特征创建新阵列。其中，参考阵列的特征必须与已有阵列的源实体之间具有定位的尺寸关系。定位新阵列特征的参照，必须是对初始阵列特征的参照，且实例号总是与初始阵列相同。;7. 曲线阵列 曲线阵列是通过指定阵列特征之间的距离或者特征数量，并沿着绘制的曲线创建阵列特征。它与填充阵列类似，都需要通过草绘图形来限制阵列的范围。;8. 点阵列 点阵列是将源特征沿着现有的点或重新草绘的点进行阵列，即该阵列方式是以点为阵列参照的。;组是系统提供的一种有效的特征组织方法，其中每个组由若干个在模型树中顺序相连的特征构成。通过组可以将多个具有关联关系的特征合并到一个组里，从而减少模型树中的节点数目。另外还可以将多个特征及其参数融合在一起，从而便于阵列等编辑操作。 创建与分解组 阵列与复制组 ;创建组是将特征归类的过程。使用“组”命令即可以将具有关联关系的特征合并为一个组，也可以通过创建的临时基准点和基准面等局部参照，自动与对应的特征合并为一个组类型。 ;组作为一个归并的整体，可以看作是一个特殊的特征对象。与其他特征一样，可以对组执行复制和阵列等操作，而且阵列或复制后的特征在模型树中仍然以组的形式存在。;隐藏与隐含特征都是在模型中不显示特征，但两者有相当大的区别，隐藏特征时可以不考虑特征的父子关系，仅是不显示隐藏项目，但项目仍保留在模型树中；而隐含特征则需要考虑特征的父子关系，其效果是从模型树中暂时移除项目。 拭除和删除特征都是将特征从当前图形中清除。两者的区别是拭除只是将特征或零件文件从内在进程中拭除，对文件本身没有影响；而删除操作则是将特征文件从硬盘上删除。 隐藏特征 隐含特征 拭除特征 删除特征 ;隐藏特征就是将特征隐藏起来，即在绘图区内不显示特征。除了可以隐藏基准特征外，还可以隐藏零件或组件中的非几何项目，包括存在于特征中的基准轴和坐标系等。;隐含特征就是将特征从模型中暂时删除。且如果选择的特征是几何特征，则隐含操作可以在操作区不显示该特征，并从模型树中移除该特征。与隐藏特征一样，特征的隐含包括隐含与取消隐含。;5.3.2 隐含特征;拭除操作主要用于清除驻留在内存进程中的文件。选择“文件”|“管