真空鍍膜技術介紹-NCVM.pptVIP

目录 NCVM简介 NCVM制程特色 NCVM工艺流程 NCVM生产技术要求 NCVM干扰测试 NCVM良率与产能评估 NCVM价格评估 NCVM 简介 NCVM（No-Conductive Vacuum Metallization）是“非导电真空电镀”的简称，属于“不连续性”导电真空电镀制程。 NCVM 除具有一般VM美化工件表面之功用，更可有效避免干扰RF（Radio Frequency）。 一般真空镀（导电电镀）金属膜排布： NCVM金属膜排布： NCVM 制程特色 防干扰能力强（可有效避免RF干扰）； 使用特殊靶材（Sn/In/SnIn等）,再配合中涂或面漆染色展现丰富色彩，提高产品的科技感； 控制镀层厚度（仅为0.05um-0.1um），实现半透光性控制，体现金属质感并具备光线可穿透性； 对塑胶材质依赖性少，可应用于各种塑胶材质,如PC,PC+ABS,ABS,PMMA,NYLON,工程塑胶等； 更符合环保制程要求，电镀品的无鉻（Non-Chrome）替代技术； NCVM 制造流程（三涂工艺） 除静电： 目的：绝缘材料的工件往往带静电，需用高压电晕放电除静电装置消除静电。 底涂: 目的： 一般工件表面不平整，喷涂底漆可以使得电镀后产品表面光亮。 增加镀层的附着力 常用油漆：UV NCVM: 目的：使产品具有较强的金属质感 靶材：Sn/In/SnIn等（导电电镀常用靶材为AL与Zn，靶材是NCVM不导电的关键） 设备：蒸镀机或溅镀机。（金属与合金的不导电电镀为离子镀） 中涂： 目的：上色，做出各种ID需要的颜色效果 常用油漆：UV+色精 面涂： 目的：起保护作用，同时提高产品的耐磨、耐候、耐化妆品性能。 常用油漆：UV或皮革漆 NCVM 制造流程（两涂工艺一） 两涂工艺的发展: 几年前，两涂工艺对NCVM颜色有限制，只能做银色效果。且对测试性能有一定要求，如水煮测试、Storage测试等不能通过。 目前，部分企业已经可以通过两涂工艺做出各种颜色效果，且可以通过各项严格测试（如CBC）。华勤的供应商中，如知音，也可以通过两涂的工艺做出各种颜色效果，但是部分测试可能会存在问题，如果对测试性能要求比较高时，他们还是会采用三涂工艺。 两涂工艺一与三涂的区别: 两者最主要的差别是，此种两涂工艺少了一道中涂，将颜色效果直接做到表漆上。（也可以理解为三涂的中涂就是两涂的表涂） 两涂少一道UV，故良率会相对三涂提高15%~20%，成本会有一定优势。 NCVM 制造流程（两涂工艺二） 两涂工艺一与两涂工艺二的区别: 两涂工艺二的颜色效果不是通过表漆来做出来，而是在真空炉中加入色粉。 两涂工艺二的颜色效果也可以做出多种颜色效果。但效果相对较难控制，目前采用此种工艺的较少。 NCVM 生产技术要求 生产环境要求： 颗粒、麻点等外观不良主要是由环境因素造成 一般生产环境为10万级无尘车间 操作人员要求： 必须着干净静电服、帽、鞋进出车间 所有操作必须戴指套作业，防止对产品造成赃物、碰刮伤等不良 模具/成型要求： 模具要求至少抛光到3000#以上 模具需预留电镀后膜厚以及组装间隙 必须进行模流分析：胶口大小、数量等腰首先确认好，结合线的位置要尽量避免在外观的明显位置 产品毛边要管控好，否则NCVM后会出现毛丝、分型线丑陋（呈锯齿状）等不良 结构要求： 产品表面尽量不要采用平面，略带点弧度，防止积漆和橘皮，利于流平 外观面过渡R角一般要求0.5mm以上 产品肉厚一般要求控制在1.0mm以上，因为NCVM时温度较高，防止产品变形 NCVM 干扰测试 测试设备：网络分析仪 测试标准： 以网络分析仪测试，中间射频为1.75Ghz，上限范围为1.95Ghz，下限范围为1.55Ghz，在此范围内为不干扰 NCVM 良率与产能评估 良率（以蒸镀为例）： 一般手机外壳良率在70%~80% 小件（如侧按键等）可以达到85%~90% 产能： 如一般手机（100mm × 45mm)，以70%的良率 ，20分钟一炉计算： 350/炉*3 炉/h*8h*70% =5880 Pcs/天/炉 NCVM 价格评估 以一般手机A壳为例， 素材：1~1.3RMB 喷涂： 两涂工艺大概在2RMB 三涂工艺大概在2.5RMB NCVM：5~6RMB 真空镀技术 — NCVM介绍 01 SHANGHAI HUAQIN TELECOM TECHNOLOGY CO.,LTD