薄膜材料与技术-1.pptVIP

薄膜材料与技术（1） 李美成 2008秋季学期 教材参考书 《电子薄膜材料》，曲喜新等编著，科学出版社，1997年11月 《薄膜科学与技术手册》，田民波、刘德令编著，机械工业出版社，1991年 《薄膜技术》，王力衡、黄运添、郑海涛著，清华大学出版社，1991年 《薄膜材料与薄膜技术》 ，郑伟涛等编著，化学工业出版社，2004年 《薄膜物理学》， L.埃克托瓦，科学出版社，1986年 Electronic Thin Film Science，Macmillan Publishing Company，1992 An Introduction to Physics and Technology of Thin Films， World Scientific Publishing Company，1994 Handbook of Thin Film Deposition Processes and Techniques: Principles, Methods, Equipment and Applications, Noyes Publications, Park Ridge, New Jersey, U.S.A., 1988 Nanoscale Phenomena in Ferroelectric Thin films, Kluwer Academic Publishers, 2004 中文期刊 中国科学 科学通报 半导体学报 红外与激光工程 功能材料 功能材料与器件学报 红外与毫米波学报 激光与红外 半导体光电 稀有金属材料与工程 英文期刊 Thin Solid Films Surface Science Surface and Coatings Technology Applied Surface Science Advanced Materials Journal of Vacuum Science and Technology, B: Surface and films Journal of Electronic Materials Materials Chemistry and Physics Nature 学习目的和基本要求 掌握真空及薄膜的物理基础，对真空、气体放电、离子溅射、薄膜生长等有较深入的了解； 掌握真空蒸镀、磁控溅射、化学气相沉积、分子束外延基本工艺，对薄膜技术有全面了解； 重点了解几种薄膜材料，对各种类型薄膜材料的制备、结构、性能及应用有系统的了解。 能够使用薄膜材料的设备，分析多种类型薄膜的性能，并具备制备新材料的能力。 课程简介 自上世纪七十年代以来，薄膜技术与薄膜材料得到突飞猛进的发展，无论在学术上还是在实际应用中都取得了丰硕的成果，并已成为当代真空科学与技术和材料科学中最活跃的研究领域，在高新技术产业中具有举足轻重的作用。 薄膜技术、薄膜材料、表面科学相结合推动了薄膜产品全方位的开发与应用。 本课程包括真空及薄膜的物理基础、薄膜工艺及薄膜材料等三部分主要内容。 第一章 绪论 第二章 真空技术基础 2.1 真空的基本知识 2.2 稀薄气体的基本性质 2.3 真空的获得 2.4 真空的测量 2.5 实用真空系统  第三章 气体放电和低温等离子体 3.1 低温等离子体 3.2 低气压气体放电 3.3 气体的激发和电离 3.4 气体放电的基本特点 3.5 辉光放电的特性 3.6 弧光放电的特性 第四章 真空蒸发镀膜法 4.1 真空蒸发原理 4.2 蒸发源的蒸发特性及膜厚分布 4.3 蒸发源的类型 4.4 合金及化合物的蒸发 4.5 膜厚和沉积速率的测量与监控  第五章 溅射镀膜法 5.1 溅射镀膜的特点 5.2 溅射的基本原理 5.3 溅射镀膜的类型 5.4 溅射镀膜的膜厚均匀性 第六章 离子镀膜法 6.1 离子镀原理 6.2 离子镀的特点 6.3 离子轰击的作用 6.4 离子镀的类型 第七章 化学气相沉积 7.1 化学气相沉积的基本原理 7.2 化学气相沉积的特点 7.3 CVD方法简介 7.4 低压化学气相沉积 7.5 等离子体化学气相沉积 7.6 金属有机化学气相沉积 第八章 分子束外延法 第九章 薄膜形成过程与生长模式 9.1 薄膜的凝结过程 9.2 核形成与生长 9.3 薄膜的形成过程和生长模式 9.4 溅射薄膜的形成过程 9.5 薄膜的外延生长 9.6 薄膜形成过程的计算机模拟 第10章 薄膜的结构与缺陷 10.1 薄膜的结构 10.2 薄膜的缺陷 10.3 薄膜结构与组分的分析方法 第11章 薄膜表面原子结构和电子结构 11.1 单晶表面的原子结构 11.2 单晶表面的电子结构 11.