Al含量对多弧离子镀Ti1-xAlxN涂层微观结构及性能的影响.pdfVIP

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2018-05-24 发布于河南
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Al含量对多弧离子镀Ti1-xAlxN涂层微观结构及性能的影响

61 4 Vol161, N o14 2 0 0 9 1 1 N onferrousM etals N ovember. 2 0 0 9 A l含量对多弧离子镀 T i A l N涂层 1- x x 微观结构及性能的影响袁建鹏, 刘富荣, 于月光 ( 北京矿冶研究总院, 100044 北京) : A l T i -A l , T A l N EM, ED 1-x x i1-x x A l, T iA lN A l, / : ; T i A l N; ; ; 1-x x : TG 1741442 : A : 1001- 0211( 2009) 04- 0026- 04 T iN CrN A l T i -A l A l x 1-x x 20%, 30% , 50% TC11, , 10mm @ 10mm @ 4mm , T iN CrN , [ 1] - 3 312@ 10 Pa, A r, 800V T Ai lN, A l, 10m in, T Ai lN T iN, , T iN , T i, T Ai lN [ 2] 014Pa, T i -A l ( T iN 200e , 1-x x ) 70A, 300V 10% , , T Ai lN 400e , 25m in [ 3- 5] 1 , T Ai lN 1 Ti AlN , A l 1-x x Tab le 1 Deposition conditions of T i A l N coatings T i- A l