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亚微米电解加工的试验研究 - 东南大学学报
第43卷第4期 东南大学学报(自然科学版) Vol.43 No.4
2013年7月 JOURNALOFSOUTHEASTUNIVERSITY(NaturalScienceEdition) July2013
doi:10.3969/j.issn.1001-0505.2013.04.019
亚微米电解加工的试验研究
吴修娟 曲宁松 曾永彬 王玉峰 朱 荻
(南京航空航天大学机电学院,南京210016)
摘要:为了增强Ag纳米线在亚微米电解加工中的稳定性,对其表面溅射金属Au.Ag纳米线的
稳定性试验结果表明,溅射层越厚,Ag纳米线在电解加工环境中的稳定性越好,但是过厚的溅射
层会使纳米线发生弯曲.当溅射层厚度约为55nm时,溅射层不够致密,电解加工时亚微米工具
电极会发生溶解;当溅射层厚度约为310nm时,溅射层的内应力过大,亚微米工具电极出现弯
曲.因此,采用溅射层厚度约为150nm的亚微米工具电极进行亚微米电解加工.在浓度为01
mol/L的HSO 电解液中,施加电压为4V、周期为50ns、脉宽为6ns的纳秒脉宽脉冲电流,于
2 4
高温合金试件表面成功加工出亚微米沟槽,沟槽长约30 m,深约80nm,底部最窄处约为
μ
450nm,入口最宽处约1 m.
μ
关键词:微纳电解加工;亚微米电解加工;Ag纳米线;工具电极
中图分类号:TG662;V2615 文献标志码:A 文章编号:1001-0505(2013)04077705
Experimentalstudyonsubmicronelectrochemicalmachining
WuXiujuan QuNingsong ZengYongbin WangYufeng ZhuDi
(CollegeofMechanicalandElectricalEngineering,NanjingUniversityofAeronauticsandAstronautics,Nanjing210016,China)
Abstract:InordertoimprovethestabilityofAgnanowiresinsubmicronelectrochemicalmachi
ning,AuissputteredonthesurfaceofAgnanowires.TheresultsofstabilityexperimentsofAg
nanowiresshowthatthestabilityofAgnanowiresincreaseswiththeincreaseofthethicknessofsput
teringlayer.However,whenthesputteringlayeristoothick,Agnanowiresarebent.Whenthe
thicknessofthesputteringlayerisabout55nm,thesubmicrontoolelectrodedissolvesinelectro
chemicalmachiningduetoloosesputteringlayer,whileitisbentbecauseoflargeinternalstress
whenthethicknessofthesputteringlayerisabout310nm.Therefore,thesubmicrontoolelectrode
withthethicknessofthesputteringlayerofabout150nmisappropriatetosubmicronelectrochemical
machining.Intheelectrolytewith01mol/LHSO,byusingthepulsegeneratorwith50nsinpe
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