蒸发溅射课堂.pdf

半导体制造技术 半导体制造技术 第三章 第三章 物理淀积 物理淀积 光电子技术实验室 1 3.1 物理真空镀膜 • 真空镀膜 • 真空溅射和蒸发 光电子技术实验室 2 3.2 真空溅射镀膜 • 真空溅射镀膜：就是使在电场中加速的 正离子轰击靶的表面，靶表面的原子、 分子在与这些高能离子交换动量后从靶 表面飞溅出来。如果在靶的附近放置适 当的基片，则从靶表面溅出的原子、分 子便会淀积在基片表面形成薄膜。 光电子技术实验室 3 3.2.1 辉光放电基本理论 光电子技术实验室 4 • 阴极区 • 在真空度为1-10Pa的真空室中， 当两个电极之间加上直流高压时 ，便产生辉光放电。由于冷阴极 发射的电子只有1eV左右的能量， 它不会与气体发生反应，因此在 阴极附近形成阿斯顿暗区。随着 电子在电场中的加速，使气体分 子激发，产生辉光，这就是阴极 辉光。电子再加速，就会使气体 分子电离，从而产生大量的离子 和低速电子，由于这个区域几乎 不发光，又称克鲁克斯暗区。 光电子技术实验室 5 光电子技术实验室 6 法拉第暗区 光电子技术实验室 7 正柱区 光电子技术实验室 8 阳极区 光电子技术实验室