用于制备高机械可靠性犚犉犕犈犕犁开关的新型工艺-光学精密工程.PDFVIP

第 卷 第 期 光学 精密工程 １６ ７ 　 Ｖｏｌ．１６ Ｎｏ．７ 　 　 　　　　　　　　 Ｏ ｔｉｃｓａｎｄＰｒｅｃｉｓｉｏｎＥｎｉｎｅｅｒｉｎ 　　　　　　　　 年 月 　 ｐ ｇ ｇ ２００８ ７ Ｊｕｌ．２００８ 　 　 　　 文章编号 （ ） １００４９２４Ｘ２００８０７１２１３０５ 　 用于制备高机械可靠性犚犉犕犈犕犛 开关的新型工艺 胡光伟，刘泽文，侯智昊，李志坚 （清华大学 微电子学研究所，北京 １０００８４） 摘要：对介质桥串联接触式 ＲＦＭＥＭＳ开关的制备工艺进行了研究。介绍了开关的结构，说明了采用常规制备工艺容易 在桥膜上形成应力集中，严重影响开关的机械可靠性。通过改进工艺，提出了一种侧向钻蚀刻蚀介质桥膜下金属的方 法，获得了平坦的介质桥膜。最后，给出了完整的开关制备流程。与常规工艺相比，新工艺避免了应力集中问题，提高了 开关的机械可靠性，成品率从 提高到了 ，工作寿命从 次提高到了 ７ 次。此外，在 的驱动 １０％ ９５％ １０００ ２．５×１０ ２３．３Ｖ 电压下，开关插入损耗 ０．５５ｄＢ ＤＣ１０ＧＨｚ，隔离度 ５３．２ｄＢ ＤＣ１０ＧＨｚ。结果表明该工艺可满足无线通讯对 ＜ ＠ ＞ ＠ ＭＥＭＳ开关成品率、寿命和微波性能的要求。 关 键 词： 开关；接触式开关；机械可靠性；侧向钻蚀；寿命 ＭＥＭＳ 　 　 中图分类号： ； ； 文献标识码： ＴＮ３８５ＴＮ６２ＴＮ３０５．８ Ａ 　　 犖狅狏犲犾狉狅犮犲狊狊犳狅狉犳犪犫狉犻犮犪狋犻狅狀狅犳犚犉犕犈犕犛狊狑犻狋犮犺 狆 狑犻狋犺犺犻犺犿犲犮犺犪狀犻犮犪犾狉犲犾犻犪犫犻犾犻狋 犵 狔 ， ， ， ＨＵＧｕａｎｗｅｉＬＩＵＺｅｗｅｎＨＯＵＺｈｉｈａｏＬＩＺｈｉｉａｎ ｇ ｊ （ ， ， ， ） 犐狀狊狋犻狋狌狋犲狅 犕犻犮狉狅犲犾犲犮狋狉狅狀犻犮狊 犜狊犻狀犺狌犪犝狀犻狏犲狉狊犻狋 犅犲犻犻狀 １０００８４ 犆犺犻狀犪 犳 犵 狔 犼 犵 ： 犃犫狊狋狉犪犮狋Ｉｎｏｒｄｅｒｔｏｉｍ ｒｏｖｅｔｈｅｍｅｃｈａｎｉｃａｌｒｅｌｉａｂｉｌｉｔａｎｄｌｉｆｅｔｉｍｅｏｆａｓｅｒｉｅｓｃｏｎｔａｃｔＲａｄｉｏＦｒ