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电路抗老化设计中基于门优先的关键门定位方法-微电子学
第 卷 第 期 微 电 子 学 ,
47 2 Vol.47 No.2
年 月
2017 4 Microelectronics A r.2017
p
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·模型与算法 ·
电路抗老化设计中基于门优先的关键门
定位方法
1 2 2 2 2
, , , ,
范 磊 梁华国 易茂祥 朱 炯 郑旭光
( , ;
1.合肥工业大学 计算机与信息学院 合肥 230009
, )
2.合肥工业大学 电子科学与应用物理学院 合肥 230009
: , ,
摘 要 随着 工艺尺寸不断缩小 尤其在 及以下的 工艺中 负偏置温度不
CMOS 65nm CMOS
( ) 。
稳定性 NBTI已经成为影响 CMOS器件可靠性的关键因素 提出了一种基于门优先的关键门定
, , ,
位方法 它基于NBTI的静态时序分析框架 以电路中老化严重的路径集合内的逻辑门为优先 同
, 。
时考虑了门与路径间的相关性 以共同定位关键门 在 45nmCMOS工艺下对 ISCAS基准电路
, : , ,
进行实验 结果表明 与同类方法比较 在相同实验环境的条件下 该方法不仅定位关键门的数量更
, , 。
少 而且对关键路径的时延改善率更高 有效地减少了设计开销
: ; ; ;
关键词 负偏置温度不稳定性 关键门 抗老化 静态时序分析
中图分类号: 文献标识码: 文章编号: ( )
TN432 A 1004-3365201702-0258-06
AMethodtoIdentifCriticalGatesb Prioritizin LoicGatesUnder
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CircuitAnti-Ain Desin
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