Sputtered Indium Tin Oxide thin films deposited （气急败坏的氧化铟锡薄膜沉积）.pdfVIP

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2017-09-02 发布于浙江
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Sputtered Indium Tin Oxide thin films deposited （气急败坏的氧化铟锡薄膜沉积）.pdf

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Sputtered Indium Tin Oxide thin films deposited （气急败坏的氧化铟锡薄膜沉积）

International Conference on Renewable Energies and Power Quality European Association for the Development of Renewable Energies, (ICREPQ’10) Environment and Power Quality (EA4EPQ) Granada (Spain), 23th to 25th March, 2010 Sputtered Indium Tin Oxide thin films deposited on glass substrate for photovoltaic application L. Kerkache(1), A. Layadi(1), F.Hadjersi(1), E. Dogheche(2), A. Gokarna(2), A. Stolz(2), M. Halbwax(2), J.P. Vilcot(2), D.Decoster(2) B. El Zein(3), S. S. Habib(3) (1) Département de Physique, Faculté des Sciences, Université Ferhat Abbas Sétif 19000, Algérie. Phone/Fax number:+00 213 36 93 79 43, e-mail: kerkachelaid@yahoo.fr (2) Institut d’Electronique Microélectronique et Nanotechnologie, IEMN-CNRS UMR 8520 Université de Valenciennes et du Hainaut Cambrésis, Cité scientifique F- 59000 Lille, France. (3) Center of Nanotechnology, King Abdul Aziz University, P.O. Box 80204, Jeddah 21589, Saudi Arabia Abstract: Polycrystalline indium tin oxide (ITO) films were Because of these characteristics, ITO films have been prepared on glass substrates by radio frequency (RF) sputtering widely used in solar cells [1], conductive electrodes [2] system from a high density target (90wt. In O and 10 wt. and ohmic contacts light emitting diodes [3]. 2 3 %SnO ). X-ray diffraction (XRD) and Scanning Electron There are many deposition techniques to obtain high