模拟电子技术第3章 第一部分.ppt

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模拟电子技术第3章 第一部分

第三章 场效应管放大器 绝缘栅场效应管 结型场效应管 3.2 场效应管放大电路 效应管放大器的静态偏置 效应管放大器的交流小信号模型 效应管放大电路 3.1 场效应管 场效应管 BJT是一种电流控制元件(iB~ iC),工作时,多数载流子和少数载流子都参与运行,所以被称为双极型器件。 增强型 耗尽型 N沟道 P沟道 N沟道 P沟道 N沟道 P沟道 FET分类: 绝缘栅场效应管 结型场效应管 场效应管(Field Effect Transistor简称FET)是一种电压控制器件(uGS~ iD) ,工作时,只有一种载流子参与导电,因此它是单极型器件。 FET因其制造工艺简单,功耗小,温度特性好,输入电阻极高等优点,得到了广泛应用。 一 结型FET的结构和工作原理 两个PN结夹着一个N型沟道。三个电极: g:栅极 d:漏极 s:源极 符号: 1. 结型场效应管的结构(以N沟为例): D G D S G S N沟道 P沟道 2. N沟道结型场效应管的工作原理 (1)栅源电压对沟道的控制作用 ②当│uGS│↑时,PN结反偏,耗尽层变宽,导电沟道变窄,沟道电阻增大。 ③当│uGS│↑到一定值时 ,沟道会完全合拢。 定义: 夹断电压UP——使导电沟道完全合拢(消失)所需要的栅源电压uGS。 在栅源间加负电压uGS ,令uDS =0 ①当uGS=0时,为平衡PN结,导电沟道最宽。 (2)漏源电压对沟道的控制作用 在漏源间加电压uDS ,令uGS =0 由于uGS =0,所以导电沟道最宽。 ①当uDS=0时, iD=0。 ②uDS↑→iD ↑ →靠近漏极处的耗尽层加宽,沟道变窄,呈楔形分布。 ③当uDS ↑,使uGD=uG S- uDS=UP时,在靠漏极处夹断——预夹断。 预夹断前, uDS↑→iD ↑。 预夹断后, iDS↑→iD 几乎不变。 ④uDS再↑,预夹断点下移。 (3)栅源电压uGS和漏源电压uDS共同作用 iD=f( uGS 、uDS),可用两组特性曲线来描绘。 1). 输出特性曲线: iD=f( uDS )│uGS=常数 3. JFET的特性曲线 uGS=0V uGS=-1V 设:UP= -3V ΔiD 低频跨导gm:用来描述动态的栅-源电压uGS对漏极电流iD的控制作用(恒流区) ΔuGS 输出特性 四个区: 放大区的特点: △ iD /△ uGS = gm ≈常数 即: △ iD = gm △ uGS (放大原理) (a)可变电阻区(预夹断前)。 (b)放大区也称为恒流区、饱和区(预夹断 后)。 (c)截止区(夹断区)。 (d)击穿区。 可变电阻区 放大区 截止区 击穿区 2). JFET的转移特性 iD=f( uGS )│uDS=常数 可根据输出特性曲线作出移特性曲线。 例:作uDS=10V的一条转移特性曲线: 恒流区中iD的表达式为: 例:已知有一结型场效应管的参数为IDSS=1.5mA,Up= - 2V,求它在UGS= - 1V时的跨导 gm= ? 恒流区中iD的表达式为: 1. 绝缘栅场效应管的结构 绝缘栅型场效应管 ( Metal Oxide Semiconductor FET),简称MOSFET。分为: 增强型 ? N沟道、P沟道 耗尽型 ? N沟道、P沟道 1.N沟道增强型MOS管 (1)结构 4个电极:漏极D, 源极S,栅极G和 衬底B。 符号: 二 绝缘栅场效应管的结构和工作原理 2 工作原理 (a) 当uGS= 0V时,漏源之间相当两个背靠背的 二极管,在漏源之间加上电压uDS也不会形成电流, 漏极电流 id=0,管子截止。 ①栅源电压uGS的控制作用 - - - P衬底 s g N + b d SiO2 + N (b)当uGS>0V, uDS = 0V时→纵向电场→(1)将两个N+ 区和衬底中电子吸引向衬底表面,并与衬底中空穴相遇复合掉;(2) 排斥衬底中的多子空穴。 →衬底表面的薄层中留下了以负离子为主的空间电荷区(耗尽层),并与两个PN结的空间电荷区相通 。 (c) 增大uGS , uDS = 0V时→纵向电场↑→N+区和衬底P区的电子进一步被吸引到衬底表面的薄层,继续排斥该薄层中的空穴→薄层中自由电子浓

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